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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0040837 (2010-04-30) |
공개번호 | 10-2011-0121301 (2011-11-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100040837 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
피식각막에 대해서 우수한 밀착력을 갖는 포토레지스트 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법을 제공한다. 포토레지스트 조성물은, 알칼리 가용성 수지, 감광성 화합물, 하기의 화학식 1의 화합물 0.01 내지 0.1 중량부, 및 용매를 포함한다.<화학식 1>(단. 상기 화학식 1에서 R은 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬, 탄소수 4 내지 8의 사이클로 알킬, 또는 벤젠이다.)
알칼리 가용성 수지;감광성 화합물;하기의 화학식 1의 화합물 0.01 내지 0.1 중량부; 및용매를 포함하는 포토레지스트 조성물.<화학식 1>(단. 상기 화학식 1에서 R은 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬, 탄소수 4 내지 8의 사이클로 알킬, 또는 벤젠이다.)
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