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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0043693 (2010-05-10) |
공개번호 | 10-2011-0124100 (2011-11-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100043693 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 해상도 및 투과율이 우수하고 내열성이 향상된 마이크로 렌즈를 형성할 수 있는 마이크로 렌즈용 화학증폭형 포토레지스트 조성물, 이를 사용하여 제조된 마이크로 렌즈에 관한 것이다. 본 발명에 따른 마이크로 렌즈용 화학증폭형 포토레지스트 조성물은, 열가교기를 포함하는 반복단위를 가지는 공중합체 수지 및 해상도와 투과율이 우수한 공중합체 수지를 포함함으로써 해상도와 투과율이 우수한 내열성이 향상된 마이크로 렌즈를 제조할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 마이크로 렌즈용 화학증폭형 포토레지스트 조성물은 고내열성을 가지기 때문에 제
하기 <화학식 1>로 표시되는 공중합체 수지;하기 <화학식 2>로 표시되는 공중합체 수지;하기 <화학식 3>으로 표시되는 열산발생제;하기 <화학식 4>로 표시되는 광산발생제; 및 (quencher)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈용 화학증폭형 포토레지스트 조성물.<화학식 1><화학식 2><화학식 3><화학식 4>상기 화학식 1, 화학식 2, 화학식 3, 및 화학식 4에서,R1는 수소원자 또는 메틸기이고,R2는 탄소수 1 내지 10의 직
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