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연합인증

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플라즈마 텍스처링 반응 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-031/18
  • H01L-031/042
  • H01L-021/3065
출원번호 10-2010-0089338 (2010-09-13)
공개번호 10-2012-0027639 (2012-03-22)
등록번호 10-1226266-0000 (2013-01-18)
DOI http://doi.org/10.8080/1020100089338
발명자 / 주소
  • 박근주 / 경기도 용인시 기흥구 서천동 현대아이파크 ***-****
  • 박건 / 경기도 성남시 분당구 운중동 **** 르시뜨 빌모트 A동 ***호
출원인 / 주소
  • (주)세미머티리얼즈 / 경기도 성남시 분당구 판교로***번길 **, 제*동 *층 (삼평동, 판교세븐벤처밸리*)
대리인 / 주소
  • 이철희
심사청구여부 있음 (2010-09-13)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 태양전지용 웨이퍼상에 건식 식각 기법으로 플라즈마 텍스처링을 실시할 때 플라즈마 이온의 밀도와 균일성을 향상시키고 이온 에너지를 적절히 제어하여 태양 전지의 제조 효율 및 품질이 향상되도록 한 기술에 관한 것이다. 이를 위해, 유전체 윈도우와 챔버몸체로 이루어져 텍스처링 대상의 태양전지용 웨이퍼가 수용되는 챔버; 상기 유전체 윈도우의 외측 상부에 설치되어 플라즈마를 형성하기 위한 자계를 발생하는 다각형 구조의 안테나 코일을 구비한다.그리고, 복수개의 고주파 전력 발생기 및 고주파 매칭부를 포함하는 고주파 하부파워 공급부를

대표청구항

유전체 윈도우와 챔버몸체로 이루어져 텍스처링 대상의 태양전지용 웨이퍼가 수용되는 챔버;상기 유전체 윈도우의 외측 상부에 설치되어 플라즈마를 형성하기 위한 자계를 발생하는 다각형 구조의 안테나 코일;상기 챔버의 하부전극에 공정특성에 상응되는 고주파 전력을 공급하는 고주파 하부파워 공급부 및,상기 다각형의 안테나 코일에 고주파 전력을 공급하는 고주파 소스파워 공급부를 구비하되,상기 안테나 코일은 수평 방향으로 배열된 다수의 코일과, 상기 수평방향으로 배열된 코일의 하부 또는 상부에 수직 방향으로 배열된 다수의 코일에 의해 배치 타입으로

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 플라즈마 처리장치 | 쿠리하라마사루, 코후지나오유키, 이타바시나오시, 츠츠미타카시
  2. [한국] 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 | 사이토 히토시, 사토료
  3. [한국] 화학 기상 증착 장치 | 신인철, 전영수
  4. [한국] 플라즈마 처리장치 | 신인철, 김형일
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