[특허]실리콘 질화막 식각액 조성물

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실리콘 질화막 식각액 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C23F-001/24 C09K-013/04
출원번호	10-2010-0139731 (2010-12-31)
공개번호	10-2012-0077676 (2012-07-10)
등록번호	10-1391605-0000 (2014-04-28)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020100139731
발명자 / 주소	임정훈 / 대전광역시 대덕구 송촌로번길 , 공원주택 **호 (송촌동) 이양화 / 대전광역시 유성구 배울로 , 신동아파밀리에 동 *호 (관평동) 이진욱 / 강원 춘천시 동내면 향군길 *동 호 (산수빌아파트) 박재완 / 대구광역시 달서구 선원로 , 동 ***호 (이곡동, 성서무지개타운)
출원인 / 주소	솔브레인 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 판교로*번길 (삼평동)
대리인 / 주소	박창희; 김종관; 권오식
심사청구여부	있음 (2010-12-31)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 실리콘질화막의 습식 식각용 조성물에 관한 것으로 자세하게는 반도체 공정에서 실리콘질화막 또는 실리콘산화막을 식각함에 있어서, 장기간 사용시에도 실리콘질화막과 실리콘산화막의 선택비에 영향을 주지 않고 식각속도를 일정하게 유지할 수 있는 습식 식각용 조성물이며, 인화합물과 암모늄계화합물을 포함하는 습식 식각용 조성물에 관한 것이다.

대표청구항

황산, 인산 및 염산 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 산의 암모늄염, 인산 및 물을 포함하는 실리콘 질화막 식각액 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

[일본] ETCHING COMPOSITION AND ETCHING METHOD | HARA YASUSHI, TAKAHASHI FUMIHARU, HAYASHI HIROAKI, SHIMONO TETSUSUU
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이 특허를 인용한 특허 (2)

[한국] 식각 조성물 및 이를 제조하는 방법 및 이를 이용한 기판 처리 방법 | 방병선, 김대훈, 최중봉, 이영일, 오승훈, 박귀수
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[한국] 실리콘 질화막 식각 조성물 | 박현우, 김동현, 조장우, 이명호, 송명근
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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