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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2010-0139731 (2010-12-31) | |
공개번호 | 10-2012-0077676 (2012-07-10) | |
등록번호 | 10-1391605-0000 (2014-04-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100139731 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-12-31) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 실리콘질화막의 습식 식각용 조성물에 관한 것으로 자세하게는 반도체 공정에서 실리콘질화막 또는 실리콘산화막을 식각함에 있어서, 장기간 사용시에도 실리콘질화막과 실리콘산화막의 선택비에 영향을 주지 않고 식각속도를 일정하게 유지할 수 있는 습식 식각용 조성물이며, 인화합물과 암모늄계화합물을 포함하는 습식 식각용 조성물에 관한 것이다.
황산, 인산 및 염산 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 산의 암모늄염, 인산 및 물을 포함하는 실리콘 질화막 식각액 조성물.
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