초록 ▼

본 발명은 반도체 소자의 제조에 이용되는 웨이퍼 고정용 정전척에 관한 것으로서, 공정 중 웨이퍼 전반에 걸쳐 균일한 온도 분포를 유지할 수 있고, 웨이퍼의 온도 편차를 최소화하여 생산 수율을 증대시킬 수 있는 정전척을 제공하는데 그 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 정전척 몸체의 가장자리 둘레를 따라 에지링이 설치된 반도체 제조설비의 정전척에 있어서, 공정 대상물인 웨이퍼의 직경에 비해 웨이퍼가 올려지는 상기 정전척 몸체의 상부면 직경이 크게 형성되고; 상기 에지링의 내주부분이 전 둘레에 걸쳐 내측으로 연장되게 형

본 발명은 반도체 소자의 제조에 이용되는 웨이퍼 고정용 정전척에 관한 것으로서, 공정 중 웨이퍼 전반에 걸쳐 균일한 온도 분포를 유지할 수 있고, 웨이퍼의 온도 편차를 최소화하여 생산 수율을 증대시킬 수 있는 정전척을 제공하는데 그 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 정전척 몸체의 가장자리 둘레를 따라 에지링이 설치된 반도체 제조설비의 정전척에 있어서, 공정 대상물인 웨이퍼의 직경에 비해 웨이퍼가 올려지는 상기 정전척 몸체의 상부면 직경이 크게 형성되고; 상기 에지링의 내주부분이 전 둘레에 걸쳐 내측으로 연장되게 형성되어, 내측으로 연장된 에지링의 내주부분이 정전척 몸체의 상부면 가장자리 부분을 덮는 구조로 되어 있으며; 상기 에지링과 웨이퍼 간의 경계부위에 해당하는 정전척 몸체의 상부면 위치에는 웨이퍼와 접촉 가능하도록 교체용 갭링이 설치됨과 동시에, 상기 갭링의 하부에는 별도의 전극이 갭링에 접촉되도록 설치되어, 상기 전극에 연결된 도전수단을 통해 전원장치로부터 전압이 인가될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 정전척이 개시된다.

대표청구항 ▼

정전척 몸체(11)의 가장자리 둘레를 따라 에지링(16)이 설치된 반도체 제조설비의 정전척(10)에 있어서,공정 대상물인 웨이퍼(1)의 직경에 비해 웨이퍼가 올려지는 상기 정전척 몸체(11)의 상부면 직경이 크게 형성되고, 상기 에지링(16)의 내주부분(16a)이 전 둘레에 걸쳐 내측으로 연장되게 형성되어, 내측으로 연장된 에지링(16)의 내주부분(16a)이 정전척 몸체(11)의 상부면 가장자리 부분을 덮는 구조로 되어 있으며, 상기 에지링(16)과 웨이퍼(1) 간의 경계부위에 해당하는 정전척 몸체(11)의 상부면 위치에는 웨이퍼(

정전척 몸체(11)의 가장자리 둘레를 따라 에지링(16)이 설치된 반도체 제조설비의 정전척(10)에 있어서,공정 대상물인 웨이퍼(1)의 직경에 비해 웨이퍼가 올려지는 상기 정전척 몸체(11)의 상부면 직경이 크게 형성되고, 상기 에지링(16)의 내주부분(16a)이 전 둘레에 걸쳐 내측으로 연장되게 형성되어, 내측으로 연장된 에지링(16)의 내주부분(16a)이 정전척 몸체(11)의 상부면 가장자리 부분을 덮는 구조로 되어 있으며, 상기 에지링(16)과 웨이퍼(1) 간의 경계부위에 해당하는 정전척 몸체(11)의 상부면 위치에는 웨이퍼(1)와 접촉 가능하도록 교체용 갭링(21)이 설치됨과 동시에, 상기 갭링(21)의 하부에는 별도의 전극(23)이 갭링(21)에 접촉되도록 설치되어, 상기 전극(23)에 연결된 도전수단(24)을 통해 전원장치(25)로부터 전압이 인가될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 정전척.