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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2011-0127522 (2011-12-01) |
| 등록번호 | 10-1210558-0000 (2012-12-04) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020110127522 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2011-12-01) |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) |
| 법적상태 | 소멸 |
플라즈마 반응을 이용하여 액상의 피처리 대상물을 처리하기 위한 플라즈마 수처리장치는, 피처리 대상물이 유입되는 대상물 유입구 및 피처리 대상물이 배출되는 대상물 배출구가 형성되는 수용 챔버부; 수용 챔버부 내측에 수용되는 피처리 대상물을 가로질러 배치되며, 피처리 대상물과 분리되는 기체 유입구 및 기체 배출구를 포함하는 유전체관; 피처리 대상물로부터 격리되게 유전체관 내측에 배치되는 코어전극; 피처리 대상물에 침지된 상태에서 유전체관을 외부에서 수용하는 광촉매 다공망; 기체 유입구로 기체를 공급하는 기체 공급부; 기체 공급부에 의해
플라즈마 반응을 이용하여 액상의 피처리 대상물을 처리하기 위한 플라즈마 수처리장치에 있어서,상기 피처리 대상물이 유입되는 대상물 유입구 및 상기 피처리 대상물이 배출되는 대상물 배출구가 형성되는 수용 챔버부;상기 수용 챔버부 내측에 수용되는 상기 피처리 대상물을 가로질러 배치되며, 상기 피처리 대상물과 분리되는 기체 유입구 및 기체 배출구를 포함하는 유전체관;상기 피처리 대상물로부터 격리되게 상기 유전체관 내측에 배치되는 코어전극; 상기 피처리 대상물에 침지된 상태에서 상기 유전체관을 외부에서 수용하는 광촉매 다공망;상기 기체 유입
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