초록 ▼

본 발명은 GC-MS 장비를 이용한 원재료의 유기물 분석 방법에 있어서, 분석에 이용될 원재료를 포함하는 희석액을 제조하는 단계; 상기 장비 내부에 분석할 웨이퍼를 설치하는 단계; 상기 웨이퍼 상면에 정량의 상기 희석액을 투하하는 단계; 및 GC-MS 장비를 이용하여 분석하는 단계를 포함하는 원재료의 유기물 성분 평가방법을 제공한다.본 발명에 따른 원재료의 유기물 성분 평가방법에 따르면, 첫째, 원재료의 주성분을 이루는 산, 알칼리 등의 물질을 제거함으로써 방치의 부식을 방지할 수 있고, 둘째, 추출을 통한 액체 성분만이 장비에 주

본 발명은 GC-MS 장비를 이용한 원재료의 유기물 분석 방법에 있어서, 분석에 이용될 원재료를 포함하는 희석액을 제조하는 단계; 상기 장비 내부에 분석할 웨이퍼를 설치하는 단계; 상기 웨이퍼 상면에 정량의 상기 희석액을 투하하는 단계; 및 GC-MS 장비를 이용하여 분석하는 단계를 포함하는 원재료의 유기물 성분 평가방법을 제공한다.본 발명에 따른 원재료의 유기물 성분 평가방법에 따르면, 첫째, 원재료의 주성분을 이루는 산, 알칼리 등의 물질을 제거함으로써 방치의 부식을 방지할 수 있고, 둘째, 추출을 통한 액체 성분만이 장비에 주입되기 때문에 장비의 고장 원인을 제거할 수 있으며, 셋째, 유기물의 추가 오염 없이 희석액을 농축 또는 건조할 수 있는 효과가 있다.

대표청구항 ▼

끓는점이 낮은 유기용매인 핵산 또는 에틸렌 클로라이드를 선택적으로 사용하여 원재료의 농도를 0.01~1.0% 범위가 되도록 조정하여 희석액을 제조하는 단계;웨이퍼 표면의 유기물을 제거하기 위하여 웨이퍼를 열처리하는 단계;일측에 불활성 가스 주입구가 마련되고, 타측에 불활성 가스 배기구가 형성되며, 상기 희석액이 저장된 희석액 보관용기로부터 희석액이 투하되는 양을 조절하는 적출밸브가 상측에 설치된 GC-MS 장비의 내부에 상기 열처리된 분석할 웨이퍼를 설치하는 단계;상기 적출밸브를 이용하여 상기 웨이퍼 상면에 정량의 상기 희석액을 투

끓는점이 낮은 유기용매인 핵산 또는 에틸렌 클로라이드를 선택적으로 사용하여 원재료의 농도를 0.01~1.0% 범위가 되도록 조정하여 희석액을 제조하는 단계;웨이퍼 표면의 유기물을 제거하기 위하여 웨이퍼를 열처리하는 단계;일측에 불활성 가스 주입구가 마련되고, 타측에 불활성 가스 배기구가 형성되며, 상기 희석액이 저장된 희석액 보관용기로부터 희석액이 투하되는 양을 조절하는 적출밸브가 상측에 설치된 GC-MS 장비의 내부에 상기 열처리된 분석할 웨이퍼를 설치하는 단계;상기 적출밸브를 이용하여 상기 웨이퍼 상면에 정량의 상기 희석액을 투하하는 단계; 상기 불활성 가스 주입구를 통해 불활성 가스를 유입시키고 상기 GC-MS 장비의 내부를 거쳐 상기 불활성 가스 배기구로 배출시켜, 상기 웨이퍼 상측으로 유입된 상기 불활성 가스를 통해 상기 웨이퍼 상에 투하된 상기 희석액을 증발시키는 단계; 및상기 희석액을 증발시키는 단계를 통해 상기 희석액이 건조 및 농축되면, 상기 웨이퍼 상에 남은 잔류물을 분석하여 원재료에 함유되어 있는 유기물에 대한 정성 및 정량 분석을 진행하는 단계;를 포함하는 원재료의 유기물 성분 평가방법.