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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2012-0009883 (2012-01-31) | |
공개번호 | 10-2013-0088565 (2013-08-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120009883 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-01-31) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 디바이스 또는 액정 디스플레이 등을 제조할 때 방진막으로 사용되는 리소그래피용 펠리클에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 초극자외선용 펠리클에 관한 것이다. 본 발명에 따른 그래핀을 이용한 초극자외선용 펠리클은 자외선이 투과하는 펠리클 막과 상기 펠리클 막을 지지하는 펠리클 프레임을 포함하며, 상기 펠리클 막은 그래핀 막인 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 초극자외선용 펠리클은 막 강도가 큰 그래핀 막을 사용하기 때문에 별도의 베이스 기판에 의한 지지가 없어도 쉽게 손상되지 않는다. 따라서 베이스 기판이 필요 없
자외선이 투과하는 펠리클 막과 상기 펠리클 막을 지지하는 펠리클 프레임을 포함하는 반도체 리소그래피용 펠리클에 있어서,상기 펠리클 막은 그래핀 막인 것을 특징으로 하는 그래핀을 이용한 초극자외선용 펠리클.
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