초록

본 발명은 나노임프린트 리소그래피 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 스탬프의 패턴이 기판 위에 도포된 레지스트에 전사되며, 자외선 조사에 의해 상기 레지스트가 경화되는 나노임프린트 리소그래피 방법에 있어서, 상기 스탬프의 패턴이 전사되는 영역에 선택적으로 자외선이 조사됨으로써, 나노패턴과 마이크로패턴이 복합적으로 형성된 패턴을 제작할 수 있는 나노임프린트 리소그래피 방법에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

스탬프(300)의 패턴이 기판(100) 위에 도포된 레지스트(200)에 전사되며, 자외선 조사에 의해 상기 레지스트(200)가 경화되는 나노임프린트 리소그래피 방법에 있어서,a) 상기 레지스트(200)가 편평하게 도포된 상기 기판(100) 위에 상기 스탬프(300)를 접촉 시켜 상기 스탬프(300)의 패턴이 상기 레지스트(200)에 전사되는 단계; 및b) 상기 스탬프(300)의 상측에 구비되며 대물렌즈(510)를 포함하는 광학수단(500)에 의해 직접 조사된 집광빔이, 상기 스탬프(300)를 투과하여 상기 레지스트(200)에 선택적

스탬프(300)의 패턴이 기판(100) 위에 도포된 레지스트(200)에 전사되며, 자외선 조사에 의해 상기 레지스트(200)가 경화되는 나노임프린트 리소그래피 방법에 있어서,a) 상기 레지스트(200)가 편평하게 도포된 상기 기판(100) 위에 상기 스탬프(300)를 접촉 시켜 상기 스탬프(300)의 패턴이 상기 레지스트(200)에 전사되는 단계; 및b) 상기 스탬프(300)의 상측에 구비되며 대물렌즈(510)를 포함하는 광학수단(500)에 의해 직접 조사된 집광빔이, 상기 스탬프(300)를 투과하여 상기 레지스트(200)에 선택적으로 조사되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피 방법.