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[한국특허] 실리콘 슬러지로부터 실리콘의 분리 및 회수방법
Method for separation and recovery of silicon from silicon sludge
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-033/037
  • B01J-019/10
  • B01D-017/038
출원번호 10-2012-0037647 (2012-04-11)
공개번호 10-2013-0115059 (2013-10-21)
등록번호 10-1355816-0000 (2014-01-21)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120037647
발명자 / 주소
  • 장희동 / 대전광역시 유성구 엑스포로 *** (전민동, 엑스포아파트 ***동 ****호)
  • 장한권 / 대전광역시 서구 만년로 ** (만년동, 초원아파트 ***동 ****호)
  • 길대섭 / 대전광역시 서구 청사로 ** (월평동, 황실타운아파트 ***동 ***호)
출원인 / 주소
  • 한국지질자원연구원 / 대전광역시 유성구 과학로 *** (가정동)
대리인 / 주소
  • 박창희; 김종관; 권오식
심사청구여부 있음 (2012-04-11)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 반도체 제조 과정에서 발생되는 폐실리콘 슬러지로부터 실리콘을 선택적으로 분리 및 회수하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 실리콘 슬러지로부터 실리콘의 분리 및 회수방법을 통해 실리콘 슬러지에 포함되어 있는 유분, 철분, 실리콘카바이드를 제거하고 실리콘을 선택적으로 분리 및 회수 할 수 있으며, 특정성분의 침출을 위해 첨가물을 투여하거나 철분을 제거하기 위해 자력선별기 등 별도의 장치를 요구하지 않으면서도 높은 효율로 실리콘을 회수할 수 있다.

대표청구항

(a) 반도체 제조 과정에서 발생되는 실리콘 슬러지를 증류하여 유분을 제거하는 증류단계;(b) 증류단계를 마친 실리콘 슬러지를 증류수에 분산시켜 실리콘 슬러지 용액을 제조하는 단계;(c) 상기 실리콘 슬러지 용액을 초음파처리 하는 단계;(d) 초음파처리를 마친 실리콘 슬러지 용액을 원심분리하여 상분리하는 단계; 및(e) 상기 상분리된 실리콘 슬러지 용액에서 실리콘입자를 회수하는 회수단계;를 포함하며,상기 실리콘 슬러지로부터 실리콘의 회수율이 35 내지 90%인실리콘 슬러지로부터 실리콘의 분리 및 회수방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 폐 실리콘웨이퍼 슬러지의 재활용 방법 및 장치 | 오세천, 김종생

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. [한국] 폐실리콘 슬러지의 정제방법 | 김강우, 손정수
  2. [한국] 중금속 제거방법 | 이상호, 이경희
  3. [한국] 실리콘 슬러지로부터 실리콘-카본-그래핀 복합체의 제조방법 | 장희동, 장한권, 최지혁, 길대섭
  4. [한국] 실리콘입자의 회수방법 및 이차전지 음극재의 제조방법 | 장희동, 장한권, 김혜경
  5. [한국] 폐실리콘 슬러지로부터 고순도 실리콘을 회수하는 방법 | 정항철, 공만식, 진연호

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