초록 ▼

본 발명은 입자형 폴리실리콘 제조의 제조 수율의 향상과 함께 공정가스가 침전되는 것을 최소화할 수 있도록 공정가스를 분사하는 분사구조를 개선한 유동층 반응기에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유동층 반응기는 외부로부터 공급되는 공정가스의 반응물이 증착되는 시드(seed)를 수용하는 챔버와, 챔버 내외부를 관통하도록 배치되어 챔버 내부에서 시드와 반응물의 증착에 의해 생성된 폴리실리콘을 포집하도록 챔버 내부로부터 외부로 폴리실리콘을 배출하는 포집부와, 포집부에 인접하고 챔버 하부 측에 배치되어 챔버 내부로 공정가스를 분사하는 적어도 하

본 발명은 입자형 폴리실리콘 제조의 제조 수율의 향상과 함께 공정가스가 침전되는 것을 최소화할 수 있도록 공정가스를 분사하는 분사구조를 개선한 유동층 반응기에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유동층 반응기는 외부로부터 공급되는 공정가스의 반응물이 증착되는 시드(seed)를 수용하는 챔버와, 챔버 내외부를 관통하도록 배치되어 챔버 내부에서 시드와 반응물의 증착에 의해 생성된 폴리실리콘을 포집하도록 챔버 내부로부터 외부로 폴리실리콘을 배출하는 포집부와, 포집부에 인접하고 챔버 하부 측에 배치되어 챔버 내부로 공정가스를 분사하는 적어도 하나의 노즐부를 포함하며, 노즐부는 공정가스가 챔버 내부로 분사되는 분사방향의 상류 측으로부터 하류 측으로 갈수록 단면적이 증가되는 스커트 형상으로 마련되는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 챔버 내부로 공정가스를 분사하는 노즐부가 분사방향으로 상류 측으로부터 하류 측으로 단면적이 증가되는 스커트 형상으로 마련되어 챔버 내부로 균일하게 공정가스를 분사할 수 있고, 이에 따라 챔버 내부에서 제조되는 폴리실리콘의 수율을 향상시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

입자형 폴리실리콘 제조용 유동층 반응기에 있어서,외부로부터 공급되는 공정가스의 반응물이 증착되는 시드(seed)를 수용하는 챔버와;상기 챔버 내외부를 관통하도록 배치되어, 상기 챔버 내부에서 상기 시드와 상기 반응물의 증착에 의해 생성된 상기 폴리실리콘을 포집하도록 상기 챔버 내부로부터 외부로 상기 폴리실리콘을 배출하는 포집부와;상기 포집부에 인접하고 상기 챔버 하부 측에 배치되어, 상기 챔버 내부로 상기 공정가스를 분사하는 적어도 하나의 노즐부를 포함하며,상기 노즐부는 상기 공정가스가 상기 챔버 내부로 분사되는 분사방향의 상류 측

입자형 폴리실리콘 제조용 유동층 반응기에 있어서,외부로부터 공급되는 공정가스의 반응물이 증착되는 시드(seed)를 수용하는 챔버와;상기 챔버 내외부를 관통하도록 배치되어, 상기 챔버 내부에서 상기 시드와 상기 반응물의 증착에 의해 생성된 상기 폴리실리콘을 포집하도록 상기 챔버 내부로부터 외부로 상기 폴리실리콘을 배출하는 포집부와;상기 포집부에 인접하고 상기 챔버 하부 측에 배치되어, 상기 챔버 내부로 상기 공정가스를 분사하는 적어도 하나의 노즐부를 포함하며,상기 노즐부는 상기 공정가스가 상기 챔버 내부로 분사되는 분사방향의 상류 측으로부터 하류 측으로 갈수록 단면적이 증가되는 스커트 형상으로 마련되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기.