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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0090835 (2012-08-20) |
공개번호 | 10-2014-0024625 (2014-03-03) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120090835 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(재심사) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 기존 일반적으로 사용되던 인체에 유해한 NMP 등의 용제류를 대체할 수 있으며 박리력도 우수한 N,N-디메틸 프로피온아미드를 포함하는 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다.
N,N-디메틸 프로피온아미드 10 내지 85 중량%,고리형 아민류 1 내지 30 중량%,양자성 극성용제 10 내지 85 중량%, 및초순수 0 내지 50 중량%를 포함하는 포토레지스트 제거용 박리액 조성물.
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