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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0157594 (2012-12-28) | |
공개번호 | 10-2014-0087392 (2014-07-09) | |
등록번호 | 10-1439505-0000 (2014-09-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120157594 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-12-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 ITO 에칭폐액으로부터 인듐, 주석 및 산을 회수하는 방법에 관한 것으로, 선택형 교환막을 사용하여 에칭폐액으로부터 산을 금속성분과 분리하는 확산투석 단계; 상기 금속성분을 포함하는 정제액에 가성소다를 첨가하여 주석 및 철수산화물을 침전시키고, 인듐을 포함하는 여액을 여과하여 주석과 인듐을 분리시키는 수산화침전 단계; 상기 여액을 농축한 다음, 알루미늄 칩을 투입하여 인듐을 금속분말로 석출시키는 산화환원 단계; 및 상기 침전된 주석 및 철수산화물을 HCl 용액에 투입하여 용해시킨 다음, 전해채취하여 전해주석을 석출하는 단
선택형 교환막을 사용하여 에칭폐액으로부터 산을 금속성분과 분리하는 확산투석 단계;상기 금속성분을 포함하는 정제액에 가성소다를 첨가하여 주석 및 철수산화물을 침전시키고, 인듐을 포함하는 여액을 여과하여 주석과 인듐을 분리시키는 수산화침전 단계;상기 여액을 농축한 다음, 알루미늄 칩을 투입하여 인듐을 금속분말로 석출시키는 산화환원 단계; 및상기 침전된 주석 및 철수산화물을 HCl 용액에 투입하여 용해시킨 다음, 전해채취하여 전해주석을 석출하는 단계를 포함하는 ITO 에칭폐액으로부터 인듐, 주석 및 산을 회수하는 방법.
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