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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0001730 (2013-01-07) | |
공개번호 | 10-2014-0089823 (2014-07-16) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130001730 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 에칭 온도와 에칭 농도를 균일하게 제어할 수 있는 웨이퍼 제조장비와 이에 적용된 웨이퍼 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 웨이퍼의 표면을 연마시키는 래핑 장치; 상기 래핑 장치를 통과한 웨이퍼를 세정시키는 고온의 세정액이 담겨진 세정 수조; 및 상기 세정 수조를 통과한 웨이퍼를 에칭시키는 에칭액이 담긴 에칭 수조;를 포함하는 웨이퍼 제조장비를 제공한다.또한, 본 발명은 웨이퍼의 표면을 연마시키는 래핑 단계; 상기 래핑 단계를 거친 웨이퍼를 고온의 세정액에 담그는 세정 단계; 및 상기 세정 단계를 거친 웨이퍼를 에칭액에 담
웨이퍼의 표면을 연마시키는 래핑 장치;상기 래핑 장치를 통과한 웨이퍼를 세정시키는 고온의 세정액이 담겨진 세정 수조; 및상기 세정 수조를 통과한 웨이퍼를 에칭시키는 에칭액이 담긴 에칭 수조;를 포함하는 웨이퍼 제조장비.
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