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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0052617 (2013-05-09) | |
공개번호 | 10-2014-0133673 (2014-11-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130052617 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
마스크 제조방법 및 마스크가 제공된다. 마스크 제조방법은 일면 상에 광흡수층 패턴이 형성된 베이스 기판을 제공하고, 상기 광흡수층 패턴 및 상기 베이스 기판의 일면 상에 반사층을 형성하고, 상기 반사층의 일부를 제거하여 반사패턴을 형성하는 것을 포함하고, 상기 반사패턴을 형성하는 것은, 상기 광흡수층 패턴에 레이저를 조사하여 상기 광흡수층 패턴 및 상기 반사층의 일부를 제거하는 것을 포함할 수 있다.
일면 상에 광흡수층 패턴을 형성한 베이스 기판을 제공하고,상기 광흡수층 패턴 및 상기 베이스 기판의 일면 상에 반사층을 형성하고,상기 반사층의 일부를 제거하여 반사패턴을 형성하는 것을 포함하고,상기 반사패턴을 형성하는 것은,상기 광흡수층 패턴에 레이저를 조사하여 상기 광흡수층 패턴 및 상기 반사층의 일부를 제거하는 것을 포함하는 마스크 제조방법.
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