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연합인증

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마스크 제조방법 및 마스크 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-001/46
  • G03F-001/54
출원번호 10-2013-0052617 (2013-05-09)
공개번호 10-2014-0133673 (2014-11-20)
DOI http://doi.org/10.8080/1020130052617
발명자 / 주소
  • 강태민 / 경기도 수원시 영통 벽적골 주공 ***-****
출원인 / 주소
  • 삼성디스플레이 주식회사 / 경기도 용인시 기흥구 삼성*로 ** (농서동)
대리인 / 주소
  • 특허법인가산
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

마스크 제조방법 및 마스크가 제공된다. 마스크 제조방법은 일면 상에 광흡수층 패턴이 형성된 베이스 기판을 제공하고, 상기 광흡수층 패턴 및 상기 베이스 기판의 일면 상에 반사층을 형성하고, 상기 반사층의 일부를 제거하여 반사패턴을 형성하는 것을 포함하고, 상기 반사패턴을 형성하는 것은, 상기 광흡수층 패턴에 레이저를 조사하여 상기 광흡수층 패턴 및 상기 반사층의 일부를 제거하는 것을 포함할 수 있다.

대표청구항

일면 상에 광흡수층 패턴을 형성한 베이스 기판을 제공하고,상기 광흡수층 패턴 및 상기 베이스 기판의 일면 상에 반사층을 형성하고,상기 반사층의 일부를 제거하여 반사패턴을 형성하는 것을 포함하고,상기 반사패턴을 형성하는 것은,상기 광흡수층 패턴에 레이저를 조사하여 상기 광흡수층 패턴 및 상기 반사층의 일부를 제거하는 것을 포함하는 마스크 제조방법.

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