[특허]마이크로 나노 버블을 이용한 반도체 세정 방법

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/302
출원번호	10-2013-0128024 (2013-10-25)
공개번호	10-2015-0047933 (2015-05-06)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020130128024
발명자 / 주소	김덕호 / 경기 용인시 수지구 동천로**번길 , **동 *호 팰리스 단지아파트 (동천동, 한빛마을래미안이스트팰리스단지) 홍성호 / 경기 용인시 수지구 상현로 -, *동 호 (상현동, 상현마을쌍용차B단지) 이석희 / 경기 용인시 기흥구 구성로 , 동 **호 (언남동, 삼성래미안차아파트) 이진우 / 경기 이천시 구만리로 , 동 **호 (증일동, 이천현대홈타운)
출원인 / 주소	에이펫(주) / 경기도 화성시 삼성로길 , 화성시 동탄택지개발지구 도시지원시설용지-블럭 (석우동)
대리인 / 주소	김함곤; 안광석; 박영일
심사청구여부	있음 (2013-10-25)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록 ▼

본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD(Liquid Crystal Display) 기판 등의 세정 시 정전기적 전하에 따른 재오염 및 손상을 방지하면서 반도체 디바이스의 특성 및 수율에 치명적인 영향을 미치는 오염물을 효과적으로 제거하기 위한 마이크로 나노 버블을 이용한 반도체 세정 방법에 관한 것으로, (a) 초순수(DeIonize water)를 공급하기 위한 단계; (b) 상기 단계 (a)로부터 공급된 초순수를 마이크로 나노 버블로 만드는 단계; 및 (c) 상기 단계 (b)에서 생성된 마이크로 나노버블을 세정 대상체로 공급하여 상

본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD(Liquid Crystal Display) 기판 등의 세정 시 정전기적 전하에 따른 재오염 및 손상을 방지하면서 반도체 디바이스의 특성 및 수율에 치명적인 영향을 미치는 오염물을 효과적으로 제거하기 위한 마이크로 나노 버블을 이용한 반도체 세정 방법에 관한 것으로, (a) 초순수(DeIonize water)를 공급하기 위한 단계; (b) 상기 단계 (a)로부터 공급된 초순수를 마이크로 나노 버블로 만드는 단계; 및 (c) 상기 단계 (b)에서 생성된 마이크로 나노버블을 세정 대상체로 공급하여 상기 세정 대상체를 세정하는 단계를 포함할 수 있다.

대표청구항

(a) 초순수(DeIonize water)를 공급하기 위한 단계;(b) 상기 단계 (a)로부터 공급된 초순수를 마이크로 나노 버블로 만드는 단계; 및 (c) 상기 단계 (b)에서 생성된 마이크로 나노버블을 세정 대상체로 공급하여 상기 세정 대상체를 세정하는 단계를 포함하는 마이크로 나노 버블을 이용한 반도체 세정 방법.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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