초록 ▼

파우더 유도 흡착형 플라즈마 처리장치에 관하여 개시한다. 본 발명은, 챔버(200), RF 전원 장치(300), 플라즈마 반응기(100); 다공성 필터로 되는 상기 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b); 파우더 피더(210); 챔버(200) 속으로 주입되는 파우더를 배치하는 파우더 배치부분(220); 파우더 입자들을 유동시키는 블로윙 가스를 챔버(200)로 도입하는 블로윙 가스 공급부(230); 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b)에 파우더를 흡착하거나 분리하는 펌핑 및 역류수단(400

파우더 유도 흡착형 플라즈마 처리장치에 관하여 개시한다. 본 발명은, 챔버(200), RF 전원 장치(300), 플라즈마 반응기(100); 다공성 필터로 되는 상기 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b); 파우더 피더(210); 챔버(200) 속으로 주입되는 파우더를 배치하는 파우더 배치부분(220); 파우더 입자들을 유동시키는 블로윙 가스를 챔버(200)로 도입하는 블로윙 가스 공급부(230); 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b)에 파우더를 흡착하거나 분리하는 펌핑 및 역류수단(400); 및 상기 반응기(100)에 포함되거나 또는 상기 반응기(100)와 구분되어 분리되는 컬렉터(500);를 포함한다. 본 발명에 따르면, 파우더 미세입자의 균일한 기능화 처리 및 연속 반복적인 재처리 수행 가능하고 고수율 양산화 조건을 충족하는 고성능 친환경성 플라즈마 처리장치를 제공한다.

대표청구항 ▼

파우더를 전극이 설치된 플라즈마 반응기(100)를 통해 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리장치에 있어서,공간 부피를 갖는 챔버(200), 상기 챔버(200) 공간에 RF 주파수 전원을 인가하는 RF 전원 장치(300), RF 전원 장치(300)로부터 인가되는 전원으로 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응기(100); 나노 또는 마이크로 사이즈를 포함하는 다공성 필터로 구성된 상기 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b); 상기 챔버(200)에 주입된 파우더(Pw)를 배치하는 파우더의 배치부분(220); 상기 파우더의 배

파우더를 전극이 설치된 플라즈마 반응기(100)를 통해 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리장치에 있어서,공간 부피를 갖는 챔버(200), 상기 챔버(200) 공간에 RF 주파수 전원을 인가하는 RF 전원 장치(300), RF 전원 장치(300)로부터 인가되는 전원으로 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응기(100); 나노 또는 마이크로 사이즈를 포함하는 다공성 필터로 구성된 상기 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b); 상기 챔버(200)에 주입된 파우더(Pw)를 배치하는 파우더의 배치부분(220); 상기 파우더의 배치부분(220)을 향하여 블로윙 가스(G1)를 도입하는 블로윙 가스 공급부(230); 상기 플라즈마 반응기(100) 또는 챔버(200) 안의 압력을 변동시키고 이로부터 반응기(100)의 내 벽면(110)에 파우더를 흡착시키거나 분리하는 펌핑 및 역류수단(400); 및 상기 챔버(200)에 포함되거나 또는 상기 챔버(200)와 구분되어 분리되는 컬렉터(500);를 포함하는 파우더 유도 흡착형 플라즈마 처리장치.