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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0021294 (2019-02-22) | |
공개번호 | 10-2020-0102810 (2020-09-01) | |
등록번호 | 10-2196481-0000 (2020-12-22) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190021294 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-02-22) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 일 실시예에 따르면, 파우더를 플라즈마 반응기를 통해 플라즈마 처리하는 수평이동식 파우더 플라즈마 처리장치에 있어서, 내부가 중공인 챔버부; 상기 챔버부의 내부에 배치되고, 전원장치로부터 전원을 인가받아 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응부; 상기 플라즈마 반응부로 파우더가 이동되도록 하는 파우더 공급부; 및 상기 챔버부 내부의 압력을 변동시키고 이로부터 상기 플라즈마 반응부에 파우더를 흡착 및 플라즈마 처리하도록 하는 흡착수단;을 포함하고, 상기 플라즈마 반응부는, 내부가 중공이고, 중심축을 공유하며 상기 중심축으로부터
파우더를 플라즈마 반응기를 통해 플라즈마 처리하는 수평이동식 파우더 플라즈마 처리장치에 있어서, 내부가 중공인 챔버부;상기 챔버부의 내부에 배치되고, 전원장치로부터 전원을 인가받아 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응부;상기 플라즈마 반응부로 파우더가 이동되도록 하는 파우더 공급부; 및상기 챔버부 내부의 압력을 변동시키고 이로부터 상기 플라즈마 반응부에 파우더를 흡착 및 플라즈마 처리하도록 하는 흡착수단;을 포함하고,상기 플라즈마 반응부는, 내부가 중공이고, 중심축을 공유하며 상기 중심축으로부터의 거리가 서로 다른 복수 개의 처리부;를
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