[특허]파우더 플라즈마 처리장치

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파우더 플라즈마 처리장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	B01J-019/08 C23C-016/44 C23C-016/448 C23C-016/50
출원번호	10-2019-0015560 (2019-02-11)
공개번호	10-2020-0098012 (2020-08-20)
등록번호	10-2196480-0000 (2020-12-22)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020190015560
발명자 / 주소	이덕연 / 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길 이창영 / 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길
출원인 / 주소	울산과학기술원 / 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길 **
대리인 / 주소	리앤목특허법인
심사청구여부	있음 (2019-02-11)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명의 일 실시예에 따르면, 파우더를 플라즈마 반응기를 통해 플라즈마 처리하는 파우더 플라즈마 처리장치에 있어서, 내부가 중공인 챔버부; 상기 챔버부의 내부에 배치되고, 전원장치로부터 전원을 인가받아 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응부; 상기 플라즈마 반응부로 파우더를 공급하는 파우더 공급부; 및 상기 플라즈마 반응부 또는 상기 챔버부 내부의 압력을 변동시키고 이로부터 상기 플라즈마 반응부에 파우더를 흡착 및 플라즈마 처리하도록 하는 흡착수단;을 포함하고, 상기 플라즈마 반응부는, 외관을 형성하고, 나노 또는 마이크로 사이즈의

대표청구항 ▼

파우더를 플라즈마 반응기를 통해 플라즈마 처리하는 파우더 플라즈마 처리장치에 있어서, 내부가 중공인 챔버부;상기 챔버부의 내부에 배치되고, 전원장치로부터 전원을 인가받아 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응부;상기 플라즈마 반응부로 파우더를 공급하는 파우더 공급부; 및상기 플라즈마 반응부 또는 상기 챔버부 내부의 압력을 변동시키고 이로부터 상기 플라즈마 반응부에 파우더를 흡착 및 플라즈마 처리하도록 하는 흡착수단;을 포함하고, 상기 플라즈마 반응부는, 외관을 형성하고, 나노 또는 마이크로 사이즈의 복수 개의 홀부가 형성되며, 외측 둘레를 따라 마루부와 골부가 연속적으로 형성되는 필터부;를 포함하고,상기 챔버부는, 상기 전원장치로부터 전원을 인가받아 플라즈마를 생성하고, 내측면에 나노 또는 마이크로 사이즈의 복수 개의 홀부가 구비되는 챔버필터가 형성되는, 파우더 플라즈마 처리장치.

이 특허에 인용된 특허 (3)

[한국] 파우더 플라즈마 처리장치 | 송석균, 이덕연, 강유석, 김성인
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[한국] 세라믹 멤브레인과 플라즈마를 이용한 악취처리장치 | 목영선, 조진오, 이상백
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[일본] DPF DEVICE FOR CAUSING REACTION AND DISAPPEARANCE OF PARTICULATE MATTER BY MEANS OF PLASMA | KAWAMURA HIDEO
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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