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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0142537 (2013-11-21) | |
공개번호 | 10-2015-0059231 (2015-06-01) | |
등록번호 | 10-1529572-0000 (2015-06-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130142537 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-11-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
파우더 유도 흡착형 플라즈마 처리장치에 관하여 개시한다. 본 발명은, 챔버(200), RF 전원 장치(300), 플라즈마 반응기(100); 다공성 필터로 되는 상기 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b); 파우더 피더(210); 챔버(200) 속으로 주입되는 파우더를 배치하는 파우더 배치부분(220); 파우더 입자들을 유동시키는 블로윙 가스를 챔버(200)로 도입하는 블로윙 가스 공급부(230); 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b)에 파우더를 흡착하거나 분리하는 펌핑 및 역류수단(400
파우더를 전극이 설치된 플라즈마 반응기(100)를 통해 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리장치에 있어서,공간 부피를 갖는 챔버(200), 상기 챔버(200) 공간에 RF 주파수 전원을 인가하는 RF 전원 장치(300), RF 전원 장치(300)로부터 인가되는 전원으로 플라즈마를 생성하는 플라즈마 반응기(100); 나노 또는 마이크로 사이즈를 포함하는 다공성 필터로 구성된 상기 반응기(100)의 내부 벽면(110)과 상부 벽면(110b); 상기 챔버(200)에 주입된 파우더(Pw)를 배치하는 파우더의 배치부분(220); 상기 파우더의 배
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