초록 ▼

본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD(Liquid Crystal Display) 기판 등의 세정 시 고효율의 세정효과, 높은 생산성 유지, 낮은 유지보수비용(CoO), 친환경 적인 요소를 충족시킴과 아울러, 정전기적 전하에 따른 재오염 및 손상을 방지하면서 반도체 디바이스의 특성 및 수율에 치명적인 영향을 미치는 오염물을 효과적으로 제거하기 위한 반도체 세정 장치의 구성 중 전해질 용액을 전해조 측으로 정량 공급하기 위한 전해질 용액 공급 장치에 관한 것으로, 전해질 용액을 전해조로 공급하기 위한 공급로 상의 미터링 펌프 후단에 유

본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD(Liquid Crystal Display) 기판 등의 세정 시 고효율의 세정효과, 높은 생산성 유지, 낮은 유지보수비용(CoO), 친환경 적인 요소를 충족시킴과 아울러, 정전기적 전하에 따른 재오염 및 손상을 방지하면서 반도체 디바이스의 특성 및 수율에 치명적인 영향을 미치는 오염물을 효과적으로 제거하기 위한 반도체 세정 장치의 구성 중 전해질 용액을 전해조 측으로 정량 공급하기 위한 전해질 용액 공급 장치에 관한 것으로, 전해질 용액을 전해조로 공급하기 위한 공급로 상의 미터링 펌프 후단에 유량을 일정량으로 통과시키면서 통과된 전해질 용액의 역류를 방지하는 밸브를 설치하여, 미터링 펌프에서 공급되는 유량의 변화 발생 시 해당 유량을 정량으로 통과시켜 공급할 수 있고, 또한 공급로 상에서의 역류로 인한 공급 유량의 오류를 방지하므로, 전해조에 공급되는 전해질 용액의 농도를 항상 일정하게 유지할 수 있고, 이에 따라 전해조의 전기 분해 효율을 향상시킨다.

대표청구항 ▼

반도체 세정 장치의 전해조로 전해질 용액을 정량으로 공급하기 위한 장치로서, 전해질 용액을 저장하기 위한 저장 탱크;상기 저장 탱크의 일측에 연결되어 전해질 용액의 공급로를 형성하는 공급 배관;상기 공급 배관으로부터 분기되어 전해질 용액의 배출로를 형성하는 배출 배관;상기 배출 배관 상에 설치되어 전해질 용액의 배출을 자동으로 제어하기 위한 제1 밸브;상기 공급 배관 상에 설치되어 전해질 용액의 공급을 자동으로 제어하기 위한 제2 밸브;상기 공급 배관 상의 상기 제2 밸브의 후단에 설치되어 상기 저장 탱크내의 전해질 용액을 상기 공

반도체 세정 장치의 전해조로 전해질 용액을 정량으로 공급하기 위한 장치로서, 전해질 용액을 저장하기 위한 저장 탱크;상기 저장 탱크의 일측에 연결되어 전해질 용액의 공급로를 형성하는 공급 배관;상기 공급 배관으로부터 분기되어 전해질 용액의 배출로를 형성하는 배출 배관;상기 배출 배관 상에 설치되어 전해질 용액의 배출을 자동으로 제어하기 위한 제1 밸브;상기 공급 배관 상에 설치되어 전해질 용액의 공급을 자동으로 제어하기 위한 제2 밸브;상기 공급 배관 상의 상기 제2 밸브의 후단에 설치되어 상기 저장 탱크내의 전해질 용액을 상기 공급로를 따라 정량으로 공급하기 위한 미터링 펌프(Metering Pump); 상기 공급 배관 상에 설치되어 상기 미터링 펌프로부터 출수된 전해질 용액을 상기 공급로를 따라 기 설정된 일정량으로 통과시키면서 통과된 전해질 용액의 역류를 방지하기 위한 제3 밸브; 상기 공급 배관의 상기 미터링 펌프의 출구 및 상기 배출 배관의 상기 제1 밸브의 출구 사이에 연결된 회수 배관;상기 회수 배관 상에 설치되어 상기 미터링 펌프의 고장 발생 시 상기 공급 배관내의 전해질 용액을 상기 배출 배관을 통해 배출하기 위한 제4 밸브; 및상기 공급 배관의 상기 제3 밸브의 후단에 설치되어 상기 제3 밸브를 통과한 전해질 용액의 전해조 측으로의 공급을 자동으로 제어하기 위한 제5 밸브를 포함하는 반도체 세정 장치의 전해질 용액 공급 장치.