[특허]웨이퍼 제조 공정에서의 파티클 추적 방법, 이를 이용한 웨이퍼 파티클 추적 장치 및 반도체 웨이퍼 세정 장치

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[한국특허] 웨이퍼 제조 공정에서의 파티클 추적 방법, 이를 이용한 웨이퍼 파티클 추적 장치 및 반도체 웨이퍼 세정 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/302 H01L-021/00
출원번호	10-2014-0039579 (2014-04-02)
공개번호	10-2015-0114846 (2015-10-13)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020140039579
발명자 / 주소	허태열 / 경기도 용인시 수지구 수지로 *번길 동 호 윤영순 / 경기도 용인시 수지구 수지로 번길 동 호 박미영 / 경기도 부천시 원미구 조마루로번길 , *동 *호
출원인 / 주소	(주)웨이퍼프랜드 / 경기도 수원시 영통구 영일로번길 * ,***호(영통동,경희레스피아)
대리인 / 주소	전수진; 김종승; 윤정호
심사청구여부	있음 (2014-04-02)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

본 발명은, 웨이퍼 제조 공정상에 이용되는 각 제조 장치로부터 발생될 수 있는 파티클의 성분 및 모양에 대한 정보를 획득하여 파티클 데이터 베이스를 생성하는 단계; 상기 웨이퍼 제조 공정을 거쳐 완성된 웨이퍼에 존재하는 파티클에 관한 오염 정보를 획득하는 단계; 및 상기 오염 정보와 상기 파티클 데이터 베이스를 이용하여 상기 파트클의 출처를 확인하는 단계를 포함하는, 웨이퍼 제조 공정에서의 파티클 추적 방법, 이를 이용한 웨이퍼 파티클 추적 장치 및 반도체 웨이퍼 세정 장치에 관한 것이다.

대표청구항

웨이퍼 제조 공정상에 이용되는 각 제조 장치로부터 발생될 수 있는 파티클의 성분 및 모양에 대한 정보를 획득하여 파티클 데이터 베이스를 생성하는 단계;상기 웨이퍼 제조 공정을 거쳐 완성된 웨이퍼에 존재하는 파티클에 관한 오염 정보를 획득하는 단계; 및 상기 오염 정보와 상기 파티클 데이터 베이스를 이용하여 상기 파트클의 출처를 확인하는 단계를 포함하는, 웨이퍼 제조 공정에서의 파티클 추적 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 이 물분석장치 및 반도체 제조 제어 장치 또는 이 물분석 방법 및 반도체 제조 제어 방법 | 야스에타까오
상세보기
[일본] FOREIGN MATTER INSPECTION DEVICE | KUETANI TETSUYA, KANO EIJI, TAKOJIMA TAKENAO
상세보기

관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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