최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2014-0068413 (2014-06-05) | |
등록번호 | 10-1424725-0000 (2014-07-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140068413 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2014-06-05) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 장치의 증착공정에 사용되는 진공챔버 또는 화학물질이 담겨진 탱크(2)의 표면에 흡착된 케미컬 오염물을 제거하기 위한 케미컬 오염물 세척방법에 있어서,(a) 상기 진공챔버 또는 탱크(2)를 고압 세척하는 단계; (b) 세척액(3)이 채워진 세척용 수조(1)에 상기 진공챔버 또는 탱크(2)를 침적시키는 단계; (c) 상기 세척용 수조(1)에 다수의 케미컬 오염물 세척용 볼 브러쉬를 투입하는 단계; 및 (d) 상기 세척용 수조(1)에 채워진 상기 세척액(3)에 와류를 일으켜 상기 케미컬 오염물 세척용 볼 브러쉬를 통해
반도체 장치의 증착공정에 사용되는 진공챔버 또는 화학물질이 담겨진 탱크(2)의 표면에 흡착된 케미컬 오염물을 제거하기 위한 케미컬 오염물 세척방법에 있어서, (a) 상기 진공챔버 또는 탱크(2)를 고압 세척하는 단계;(b) 세척액(3)이 채워진 세척용 수조(1)에 상기 진공챔버 또는 탱크(2)를 침적시키는 단계;(c) 상기 세척용 수조(1)에 다수의 케미컬 오염물 세척용 볼 브러쉬를 투입하는 단계; 및(d) 상기 세척용 수조(1)에 채워진 상기 세척액(3)에 와류를 일으켜 상기 케미컬 오염물 세척용 볼 브러쉬를 통해 상기 진공챔버
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.