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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0164766 (2014-11-24) | |
공개번호 | 10-2016-0062336 (2016-06-02) | |
등록번호 | 10-2175349-0000 (2020-11-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140164766 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-07-16) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 디스플레이패널을 제조하기 위한 기판이 위치하는 열처리부, 상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체를 가열하기 위한 가열부, 상기 가열부를 거친 제1온도조절유체가 상기 열처리부를 거쳐 상기 가열부로 이동하도록 제1온도조절유체를 순환 이동시키기 위한 순환부, 상기 열처리부를 거친 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하도록 유도하는 유도부; 및 상기 열처리부, 상기 가열부, 상기 순환부, 및 상기 유도부가 설치되는 챔버부를 포함하고, 상기 챔버부에는 상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하기 위한
디스플레이패널을 제조하기 위한 기판이 위치하는 열처리부;상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체를 가열하기 위한 가열부;상기 가열부를 거친 제1온도조절유체가 상기 열처리부를 거쳐 상기 가열부로 이동하도록 제1온도조절유체를 순환 이동시키기 위한 순환부;상기 열처리부를 거친 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하도록 유도하는 유도부; 및상기 열처리부, 상기 가열부, 상기 순환부, 및 상기 유도부가 설치되는 챔버부를 포함하고,상기 챔버부에는 상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하기 위한 순환통로가 구비되며
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