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연합인증

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디스플레이패널 제조용 열처리장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G02F-001/13
출원번호 10-2014-0164766 (2014-11-24)
공개번호 10-2016-0062336 (2016-06-02)
등록번호 10-2175349-0000 (2020-11-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140164766
발명자 / 주소
  • 송종호 / 경기도 고양시 덕양구 백양로 ** ****동 ***호 (화정동,옥빛마을**단지아파트)
  • 류경백 / 경기도 파주시 금촌*동 ***동 ***호
  • 최인철 / 경기도 오산시 경기동로 ***-*
  • 남성우 / 경기도 오산시 경기동로 ***-*
출원인 / 주소
  • 엘지디스플레이 주식회사 / 서울특별시 영등포구 여의대로 ***(여의도동)
  • 주식회사 제우스 / 경기도 화성시 안녕남로 ***
대리인 / 주소
  • 특허법인천문
심사청구여부 있음 (2019-07-16)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 디스플레이패널을 제조하기 위한 기판이 위치하는 열처리부, 상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체를 가열하기 위한 가열부, 상기 가열부를 거친 제1온도조절유체가 상기 열처리부를 거쳐 상기 가열부로 이동하도록 제1온도조절유체를 순환 이동시키기 위한 순환부, 상기 열처리부를 거친 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하도록 유도하는 유도부; 및 상기 열처리부, 상기 가열부, 상기 순환부, 및 상기 유도부가 설치되는 챔버부를 포함하고, 상기 챔버부에는 상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하기 위한

대표청구항

디스플레이패널을 제조하기 위한 기판이 위치하는 열처리부;상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체를 가열하기 위한 가열부;상기 가열부를 거친 제1온도조절유체가 상기 열처리부를 거쳐 상기 가열부로 이동하도록 제1온도조절유체를 순환 이동시키기 위한 순환부;상기 열처리부를 거친 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하도록 유도하는 유도부; 및상기 열처리부, 상기 가열부, 상기 순환부, 및 상기 유도부가 설치되는 챔버부를 포함하고,상기 챔버부에는 상기 열처리부로부터 배출되는 제1온도조절유체가 상기 가열부로 이동하기 위한 순환통로가 구비되며

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 반도체 검사용 번인 테스터 | 장석준, 노상현, 신희택, 김영록
  2. [한국] 열처리 장치 및 이를 구비한 열처리 시스템 | 이병일, 이영호, 허관선
  3. [일본] SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS | HAYASHIDA AKIRA, SHIMADA SHINICHI
  4. [일본] TEMPERATURE CONTROL SYSTEM | OGAWARA YOSHIO

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 처리 챔버 및 이를 포함하는 핸들러 | 노종기, 백승학, 이진형
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