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개시제를 사용하는 화학기상증착(iCVD) 공정을 이용한 가스 분리막의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B01D-071/00
  • B01D-067/00
  • C23C-016/44
출원번호 10-2014-0168702 (2014-11-28)
공개번호 10-2016-0064725 (2016-06-08)
등록번호 10-1683776-0000 (2016-12-01)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140168702
발명자 / 주소
  • 임성갑 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원 생명화학공학과
  • 김지연 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원
  • 유영민 / 서울특별시 송파구 삼전로*길 ** ***호 (잠실동)
출원인 / 주소
  • 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소
  • 이처영; 장제환
심사청구여부 있음 (2014-11-28)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 개시제를 사용하는 화학기상증착(iCVD) 공정을 이용하여 기판 위에 고분자를 증착 또는 코팅시키는 가스 분리막의 제조방법에 관한 것으로, 혼합된 가스로부터 목표 가스의 분리를 위한 투과율 및 선택도가 탁월한 효과가 있다.

대표청구항 ▼

다음의 단계를 포함하는 개시제를 사용하는 화학기상증착 반응기(iCVD)를 이용한 가스 분리막의 제조방법:(a) iCVD 반응기의 단량체 통에 단량체를 넣은 다음, 30~45℃로 가열하고, iCVD 반응기의 개시제통에 개시제를 넣고 상온으로 유지한 후에, 1:1~4:1의 유량비로 단량체와 개시제를 iCVD 반응기에 투입하는 단계;(b) 다공성 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile) 기판을 상기 반응기의 바닥에 고정시키는 단계; 및(c) 상기 다공성 기판 상에 고분자를 증착시키는 단계,상기 단량체는 2,4,6,8-테트라메틸

발명자의 다른 특허 :

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  1. [한국] 초소수성 영역과 친수성 영역을 가지는 표면체의 제조방법 및 제조장치 | 임성갑, 유재범, 유영민, 오명석
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  1. [한국] 유해물질 제거용 기능성 섬유 및 이를 포함하는 개인 보호복 | 이재헌, 정현숙, 정희수, 진영호, 김민건, 이상면
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