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실리콘 산화막 식각액 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C09K-013/06
  • C09K-013/08
  • H01L-021/306
  • H01L-021/3105
출원번호 10-2015-0002734 (2015-01-08)
공개번호 10-2016-0085569 (2016-07-18)
등록번호 10-1643655-0000 (2016-07-22)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150002734
발명자 / 주소
  • 이명호 / 충청남도 아산시 인주면 인주산단로 ***-**
  • 정태수 / 충청남도 아산시 인주면 인주산단로 ***-**
  • 문재웅 / 충청남도 아산시 인주면 인주산단로 ***-**
출원인 / 주소
  • 주식회사 이엔에프테크놀로지 / 경기도 용인시 기흥구 탑실로**번길 ** (공세동)
대리인 / 주소
  • 김애라
심사청구여부 있음 (2015-01-08)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은, 실리콘 산화막을 선택적으로 식각할 수 있는 실리콘 산화막 식각액을 제공한다. 본 발명에 따른 실리콘 산화막 식각액에 의하면, 실리콘막 부식 방지제를 함유함에 따라, 반도체 패턴 구조 형성시 실리콘막에 손상을 주지 않으면서 실리콘 산화막을 식각할 수 있으므로 각종 반도체 소자 공정에 유용하게 쓰일 수 있다.

대표청구항

실리콘 산화막 식각액 100중량부를 기준으로,다가 히드록시기 함유 실리콘 부식방지제 0.1 내지 3중량부;질소 함유 할로겐화물 5 내지 30중량부;무기산 및 유기산 중 1종 이상의 화합물 0.5 내지 10중량부; 및잔량의 물;을 포함하며,상기 다가 히드록시기 함유 실리콘 부식방지제가 아스콜빈산, 솔비톨, 글루코스, 자일로스, 만노스 및 폴리에틸렌글리콜 중 어느 하나 이상을 포함하는 것인 실리콘 산화막 식각액.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 실리콘 산화물 식각액 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 | 황동원, 이헌정, 임광신, 박정대
  2. [한국] 실리콘산화막 및 실리콘질화막 식각용 식각액 조성물 | 정찬진, 백귀종, 박성환, 임정훈, 김성배, 김현탁, 주상진
  3. [한국] 실리콘 산화막에 대한 선택적 에칭액 조성물 | 이재연, 진영준
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