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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0002734 (2015-01-08) | |
공개번호 | 10-2016-0085569 (2016-07-18) | |
등록번호 | 10-1643655-0000 (2016-07-22) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150002734 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-01-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은, 실리콘 산화막을 선택적으로 식각할 수 있는 실리콘 산화막 식각액을 제공한다. 본 발명에 따른 실리콘 산화막 식각액에 의하면, 실리콘막 부식 방지제를 함유함에 따라, 반도체 패턴 구조 형성시 실리콘막에 손상을 주지 않으면서 실리콘 산화막을 식각할 수 있으므로 각종 반도체 소자 공정에 유용하게 쓰일 수 있다.
실리콘 산화막 식각액 100중량부를 기준으로,다가 히드록시기 함유 실리콘 부식방지제 0.1 내지 3중량부;질소 함유 할로겐화물 5 내지 30중량부;무기산 및 유기산 중 1종 이상의 화합물 0.5 내지 10중량부; 및잔량의 물;을 포함하며,상기 다가 히드록시기 함유 실리콘 부식방지제가 아스콜빈산, 솔비톨, 글루코스, 자일로스, 만노스 및 폴리에틸렌글리콜 중 어느 하나 이상을 포함하는 것인 실리콘 산화막 식각액.
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