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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0053050 (2015-04-15) | |
등록번호 | 10-1625478-0000 (2016-05-24) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150053050 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-04-15) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 수직으로 적층된 복수의 기판에 반응가스를 공급하여 박막을 증착시키는 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법에 관한 것이다. 박막 증착 장치는 복수의 기판을 처리하는 반응실; 상기 반응실 내부에 상기 복수의 기판을 수직으로 적층하여 지지하는 기판지지부; 및 상기 복수의 기판 각각의 하부에 대응하도록 배치되어 기판을 가열하는 복수의 히터 및 상기 복수의 히터를 수직으로 적층하여 지지하는 히터지지대를 구비한 가열부; 를 포함한다. 이에 의해 본 발명의 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법에 의하면, 복수의
복수의 기판을 처리하는 반응실;상기 반응실 내부에 상기 복수의 기판을 수직으로 적층하여 지지하는 기판지지부; 및상기 복수의 기판 각각의 하부에 대응하도록 배치되어 기판을 가열하는 복수의 히터 및 상기 복수의 히터를 수직으로 적층하여 지지하는 히터지지대를 구비한 가열부; 를 포함하고,상기 기판지지부는, 상기 복수의 기판 외곽에 수직으로 기립된 복수의 기판지지대; 상기 기판지지대에 결합되어 상기 기판 하부를 지지하는 리프트핀; 및 상기 기판지지대를 승하강시켜 상기 리프트핀에 지지된 기판을 상기 히터 상에 안착 또는 탈착시키는 기판 구동
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