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[한국특허] 메탈 메쉬 형성 방법 및 메탈 메쉬를 구비하는 반도체 소자
Method for forming metal mesh and semiconductor device having the metal mesh
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-029/41
  • B82B-001/00
  • H01L-021/02
출원번호 10-2015-0059717 (2015-04-28)
공개번호 10-2016-0128018 (2016-11-07)
등록번호 10-1766828-0000 (2017-08-03)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150059717
발명자 / 주소
  • 김태근 / 경기도 성남시 분당구 양현로 **, ***동 ****호 (이매동, 이매촌동부코오롱아파트)
  • 이병룡 / 서울특별시 동대문구 무학로**길 **, ***호 (용두동)
출원인 / 주소
  • 고려대학교 산학협력단 / 서울특별시 성북구 안암로 ***, 고려대학교 (안암동*가)
대리인 / 주소
  • 특허법인주원
심사청구여부 있음 (2015-04-28)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 발광 소자 또는 수광 소자를 포함하는 기판 위에 나노 사이즈의 물질로 네트워크를 형성하고, 네트워크의 일부가 잠기도록 패턴층을 형성한 후, 패턴층에서 네트워크를 형성하는 나노 물질을 제거함으로써, 패턴층에 나노 사이즈의 패턴을 형성하고, 그 위에 금속을 증착한 후 패턴층을 제거함으로써, 기판위에 나노 사이즈의 선폭을 갖는 메탈 메쉬를 형성할 수 있다. 따라서, 본 발명은 종래의 사진 식각 공정을 이용하는 메탈 메쉬 형성 방법에 비하여 간단한 공정으로 나노 사이즈의 선폭을 갖는 메탈 메쉬를 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 소

대표청구항

(a) 기판 위에 폭보다 길이가 더 긴 나노 사이즈의 물질(나노 물질)이 상호 연결된 네트워크를 형성하는 단계;(b) 상기 네트워크의 일부가 잠기도록 상기 기판위에 패턴층을 형성하는 단계;(c) 상기 네트워크를 제거하여 상기 패턴층에 네트워크에 대응되는 패턴을 형성하는 단계;(d) 상기 기판위에 메탈을 증착하여 상기 패턴에 대응되는 메탈 메쉬를 형성하는 단계; 및(e) 상기 패턴층을 제거하여 상기 기판위에 상기 메탈 메쉬만을 잔존시키는 단계를 포함하고,상기 나노 물질은 CNT(Carbon Nano Tube)이며, 상기 (c) 단계는

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 그래핀층을 포함하는 투명전극 및 이의 제조방법 | 안종현, 염근영
  2. [한국] 전기방사법을 이용한 기판의 패턴구조 형성방법 | 성태연, 정상용, 박성한, 윤주헌
  3. [일본] SUBSTRATE FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM | YABE HIROKI, YAMAKI TAKEYUKI

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