최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2015-0062010 (2015-04-30) | |
공개번호 | 10-2016-0129608 (2016-11-09) | |
등록번호 | 10-2335773-0000 (2021-12-01) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150062010 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2020-04-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
그래핀을 포함한 2D 물질을 사용한 유연소자 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 유연소자 제조방법은 제2 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계; 상기 유전체층 상에 2D 물질층을 형성하고, 상기 2D 물질층에 패턴을 형성하는 단계; 상기 유전체층 및 상기 2D 물질층 상에 유연성 물질을 포함하는 제1 기판을 형성하는 단계; 상기 제2 기판을 제거하는 단계; 및 상기 유전체층 상에 소스 전극, 드레인 전극 및 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함한다.
제2 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계;상기 유전체층 상에 2D 물질층을 형성하고, 상기 2D 물질층에 패턴을 형성하는 단계;상기 유전체층 및 상기 2D 물질층 상에 유연성 물질을 포함하는 제1 기판을 형성하는 단계;상기 제2 기판을 제거하는 단계;상기 제2 기판을 제거한 후,상기 유전체층 상에 서로 이격된 소스 전극 패턴 및 드레인 전극 패턴을 형성하는 단계;상기 소스 전극 패턴 및 상기 드레인 전극 패턴 상에 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 및상기 소스 전극 패턴 및 상기 드레인 전극 패턴 사이에 형성된 상기 유전
해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.