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[한국특허] 그래핀을 포함한 2D 물질을 사용한 유연소자 및 그 제조방법
Flexible device using graphene and 2 dimensional materials and fabricating the same
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-029/16
  • H01L-021/31
  • H01L-029/66
출원번호 10-2015-0062010 (2015-04-30)
공개번호 10-2016-0129608 (2016-11-09)
등록번호 10-2335773-0000 (2021-12-01)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150062010
발명자 / 주소
  • 이재호 / 서울특별시 강남구 개포로 ***, ***동 ***호 (개포동, 주공아파트)
  • 이기영 / 서울특별시 용산구 이촌로**길 *, ***호 (이촌동, e-편한세상로얄맨션)
  • 이상엽 / 경기도 화성시 동탄반석로 ***, ***동 ***호 (석우동, 예당마을신일유토빌아파트)
  • 이은규 / 경기도 용인시 수지구 죽전로 ***, ***동 ***호 (죽전동, 성현마을우미*차아파트)
  • 허진성 / 서울특별시 서초구 남부순환로***길 **, 서초현대오피스 A동 ***호 (서초동)
  • 박성준 / 서울특별시 강남구 선릉로 ***, ***동 ****호 (도곡동, 도곡렉슬아파트)
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 삼성로 *** (매탄동)
대리인 / 주소
  • 리앤목특허법인
심사청구여부 있음 (2020-04-21)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

그래핀을 포함한 2D 물질을 사용한 유연소자 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 유연소자 제조방법은 제2 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계; 상기 유전체층 상에 2D 물질층을 형성하고, 상기 2D 물질층에 패턴을 형성하는 단계; 상기 유전체층 및 상기 2D 물질층 상에 유연성 물질을 포함하는 제1 기판을 형성하는 단계; 상기 제2 기판을 제거하는 단계; 및 상기 유전체층 상에 소스 전극, 드레인 전극 및 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함한다.

대표청구항

제2 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계;상기 유전체층 상에 2D 물질층을 형성하고, 상기 2D 물질층에 패턴을 형성하는 단계;상기 유전체층 및 상기 2D 물질층 상에 유연성 물질을 포함하는 제1 기판을 형성하는 단계;상기 제2 기판을 제거하는 단계;상기 제2 기판을 제거한 후,상기 유전체층 상에 서로 이격된 소스 전극 패턴 및 드레인 전극 패턴을 형성하는 단계;상기 소스 전극 패턴 및 상기 드레인 전극 패턴 상에 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 및상기 소스 전극 패턴 및 상기 드레인 전극 패턴 사이에 형성된 상기 유전

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. [미국] GRAPHENE DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME | Xianyu, Wenxu, Moon, Chang-youl, Lee, Jeong-yub, Lee, Chang-seung
  2. [미국] GRAPHENE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME | Lee, Chang-seung, Lee, Joo-ho, Kim, Yong-sung, Moon, Chang-youl

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