$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[한국특허] STI 연마용 슬러리 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C09K-003/14
  • H01L-021/306
출원번호 10-2015-0094837 (2015-07-02)
공개번호 10-2017-0004462 (2017-01-11)
등록번호 10-1761792-0000 (2017-07-20)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150094837
발명자 / 주소
  • 윤영록 / 서울특별시 송파구 잠실로 **, ***동 ****호 (잠실동, 레이크팰리스)
  • 권민석 / 충청북도 진천군 진천읍 장관*길 ***, **동 ****호 (사랑으로부영*차아파트)
  • 서지훈 / 서울특별시 성동구 왕십리로 ***, FTC ***호 (사근동, 한양대학교)
  • 백운규 / 서울특별시 강남구 선릉로 ***, **동 ***호 (대치동, 우성아파트)
  • 윤희성 / 경상북도 포항시 남구 대이로 ***, ***동 ***호 (대잠동, 이동현대홈타운아파트)
  • 김기정 / 경기도 오산시 오산로***번길 **-* (원동)
  • 이강천 / 서울특별시 송파구 올림픽로**길 **, *동 ***호 (신천동, 미성아파트)
  • 조윤성 / 서울특별시 관악구 조원로*길 **, *층 (신림동)
출원인 / 주소
  • 주식회사 케이씨텍 / 경기도 안성시 미양면 제*공단*길 **
  • 한양대학교 산학협력단 / 서울특별시 성동구 왕십리로 ***(행당동, 한양대학교내)
대리인 / 주소
  • 특허법인 무한
심사청구여부 있음 (2015-07-02)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은 STI 연마용 슬러리 조성물에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 STI 연마용 슬러리 조성물은 초임계 또는 아임계 조건 하에서 제조된 산화세륨 연마입자 및 분산제를 포함하는 연마액; 및 술폰기를 포함하는 고분자 첨가제;를 포함한다.

대표청구항 ▼

초임계 또는 아임계 조건 하에서 제조된 산화세륨 연마입자 및 분산제를 포함하는 연마액; 및술폰기를 포함하는 고분자 첨가제;를 포함하고,얕은 트렌치 소자 분리(shallow trench isolation; STI) 공정에서, 실리콘질화막 연마율은 25 Å/min 이하이고, 실리콘산화막 대비 실리콘질화막의 연마 선택비가 10 : 1 내지 150 : 1이고,하기의 화학식 1에 의해 계산되는 상기 산화세륨 연마입자 표면의 Ce3+ 함량은 10% 내지 60%인 것인, STI 연마용 슬러리 조성물:[화학식 1]Ce3+ 함량(%)= (Ce3+

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 산화세륨 입자의 제조 방법, 이에 의한 산화세륨 입자 및 이를 포함하는 연마 슬러리 | 고석규, 권민석
    상세보기
  2. [일본] CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD | HATTORI MASAYUKI, IKEDA NORIHIKO, NISHIMOTO KAZUO, KAWAHASHI NOBUO, YANO HIROYUKI, ONO TAKATOSHI, TATEYAMA YOSHIKUNI
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  2. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  3. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  4. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  5. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  6. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  7. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  8. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  9. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  10. [한국] 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  11. [한국] 연마 조성물의 제조 방법 | 김응철, 김태성
    상세보기
  12. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  13. [한국] 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  14. [한국] 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  15. [한국] 신규한 세륨계 입자 및 이를 포함하는 연마 슬러리 조성물 | 이정규, 장효준, 황준하
    상세보기
  16. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  17. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  18. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  19. [한국] 산화 세륨 입자, 이를 포함하는 화학적 기계적 연마 슬러리 조성물 및 반도체 소자의 제조 방법 | 이정호, 김석주
    상세보기
  20. [한국] 슬러리 및 연마 방법 | 노무라 사토유키, 이와노 도모히로, 마쓰모토 다카아키, 하세가와 도모야스, 구키타 도모미
    상세보기

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로