[특허]식각용 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법

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[한국특허] 식각용 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법
COMPOSITION FOR ETCHING AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C09K-013/04 H01L-021/306 H01L-021/311
출원번호	10-2015-0096495 (2015-07-07)
공개번호	10-2016-0010312 (2016-01-27)
등록번호	10-2470905-0000 (2022-11-22)
우선권정보	대한민국(KR) 1020140090660 (2014-07-17)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020150096495
발명자 / 주소	이진욱 / 대전광역시 유성구 노은동로번길 (노은동, *) 박재완 / 대구광역시 중구 달구벌대로 , 동 *호 (대신동, 대신센트럴자이) 임정훈 / 대전광역시 대덕구 송촌로번길 , *호 (송촌동, 공원주택)
출원인 / 주소	솔브레인 주식회사 / 경기도 성남시 분당구 판교로*번길 (삼평동,솔브레인)
대리인 / 주소	유종우
심사청구여부	있음 (2020-07-07)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은 식각용 조성물 및 이 식각용 조성물을 이용한 식각 공정을 포함하는 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 식각용 조성물은 제1 무기산, 제2 무기산과 실란 화합물을 반응시켜 제조된 실란 무기산염, 그리고 용매를 포함한다.상기 식각용 조성물은 산화막의 식각율을 최소화하면서 질화막을 선택적으로 제거할 수 있으며, 소자 특성에 악영향을 미치는 파티클 발생 등의 문제점을 갖지 않는 고선택비의 식각용 조성물이다.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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