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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0144061 (2015-10-15) | |
공개번호 | 10-2016-0078224 (2016-07-04) | |
등록번호 | 10-1772545-0000 (2017-08-23) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2014-260001 (2014-12-24) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150144061 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-10-15) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
[과제] 광 노광 기술 및 하전 입자빔 노광 기술을 조합하여, 복잡하고 미세한 패턴을 형성한다.[해결수단] 시료 상의 라인 패턴에 따른 위치에 하전 입자빔을 조사하는 노광 장치에 있어서, 라인 패턴의 폭 방향으로 조사 위치가 상이한 복수의 하전 입자빔을 발생하는 빔 발생부와, 복수의 하전 입자빔의 조사 위치를, 라인 패턴의 길이 방향을 따라 주사시키는 주사 제어부와, 라인 패턴 상의 길이 방향의 지정된 조사 위치에 있어서, 복수의 하전 입자빔 중 시료에 조사해야 하는 적어도 1개의 하전 입자빔을 선택하는 선택부와, 선택된 적어도 1
시료 상의 라인 패턴에 따른 위치에 하전 입자빔을 조사하는 노광 장치에 있어서,상기 라인 패턴의 폭 방향으로 조사 위치가 상이한 복수의 하전 입자빔을 발생하는 빔 발생부;상기 복수의 하전 입자빔의 조사 위치를, 상기 라인 패턴의 길이 방향을 따라 주사시키는 주사 제어부;상기 라인 패턴 상의 길이 방향의 지정된 조사 위치에 있어서, 상기 복수의 하전 입자빔 중 상기 시료에 조사해야 하는 적어도 1개의 하전 입자빔을 선택하는 선택부; 및선택된 상기 적어도 1개의 하전 입자빔을 상기 시료에 조사하는 제어를 하고, 상기 적어도 1개의 하전
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