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연합인증

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노광 시스템, 노광 장치 및 노광 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-007/20
출원번호 10-2018-7026283 (2018-09-11)
공개번호 10-2018-0114918 (2018-10-19)
등록번호 10-2143085-0000 (2020-08-04)
우선권정보 중국(CN) 201610092322.2 (2016-02-18)
국제출원번호 PCT/CN2017/073957 (2017-02-17)
국제공개번호 WO 2017/140265 (2017-08-24)
번역문제출일자 2018-09-11
DOI http://doi.org/10.8080/1020187026283
발명자 / 주소
  • 란, 커 / 중국 상하이 ****** 장지앙 하이-테크 파크 장동 로드 ****
  • 거, 야핑 / 중국 상하이 ****** 장지앙 하이-테크 파크 장동 로드 ****
  • 첸, 용후이 / 중국 상하이 ****** 장지앙 하이-테크 파크 장동 로드 ****
출원인 / 주소
  • 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 / 중국 상하이 ****** 장지앙 하이-테크 파크 장동 로드 ****
대리인 / 주소
  • 특허법인 무한
심사청구여부 있음 (2018-09-11)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

노광 시스템(10), 노광 장치 및 노광 방법이 개시된다. 상기 노광 시스템(10)은 레이저 유닛(11), 광점 전환 유닛(12) 및 렌즈 유닛(13)을 포함하며; 상기 레이저 유닛(11)은 레이저 광선을 생산하기 위해 구성되고; 상기 광점 전환 유닛(12)은 노광되는 가공물을 위해 광점의 원하는 크기를 기반으로 상이한 광로들 중 하나를 따라 이동하도록 상기 레이저 광선을 지향하여 상기 광점의 원하는 크기와 대응하는 레이저 광선이 얻어지도록 구성되고; 상기 렌즈 유닛(13)은 상기 레이저 광선이 상기 가공물 상에 입사되는 방향을 바

대표청구항

레이저 유닛;광점 전환 유닛; 및 렌즈 유닛;을 포함하며,상기 레이저 유닛은 레이저 광선을 생산하도록 구성되고,상기 광점 전환 유닛은 제1개구를 포함하는 제1광로 및 제2개구를 포함하는 제2광로를 포함하고, 상기 광점 전환 유닛은 노광되는 가공물을 위한 광점의 원하는 크기를 기반으로 상기 제1개구 및 상기 제2개구의 개방 또는 폐쇄 상태를 제어함으로써 제1광로 및 제2광로 중 하나를 따라 이동하도록 상기 레이저 광선을 지향하도록 구성되어 상기 광점의 원하는 크기에 대응하는 레이저 광선이 얻어지고,상기 렌즈 유닛은 상기 레이저 광선이

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. [미국] Device of switching a scanning beam diameter | Maeda Kiyoshi (Takatsuki JPX) Ueyama Tsutomu (Shijonawate JPX)
  2. [미국] High-throughput, high-resolution, projection patterning system for large, flexible, roll-fed, electronic-module substrat | Jain Kanti (Elmsford NY)
  3. [일본] CORRECTION METHOD OF ALIGNMENT UNIT, DRAWING APPARATUS CAPABLE OF CORRECTING ALIGNMENT, AND CARRYING DEVICE | FUKUI TAKASHI
  4. [일본] ALIGNER AND LIGHT SOURCE DEVICE | HAGIWARA SHIGERU, ATSUMI SHINOBU
  5. [일본] LASER MACHINING APPARATUS, MACHINING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING CIRCUIT BOARD USING THIS MACHINING METHOD | AKASAKA AKIRA, ITO TOSHIFUMI, TAKAHASHI KIKUO

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 광학식 리소그래피 장치 및 방법 | 임형준, 이재종, 최기봉, 김기홍, 권순근, 안준형, 최학종, 정대경
  2. [한국] 정렬 마크를 형성하기 위한 장치 및 방법 | 리우 옌-첸, 유 쳉-하오, 시 차오-리, 양 치-셴, 후앙 쳉-이
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