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실리카를 이용한 실리콘의 제조방법 및 그 방법으로 제조된 실리콘 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-033/023
  • B01J-008/18
  • C01B-033/12
출원번호 10-2015-0159466 (2015-11-13)
등록번호 10-1636923-0000 (2016-06-30)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150159466
발명자 / 주소
  • 조원철 / 대전광역시 유성구 유성대로****번길 ***, ***호 (장동, 한국에너지기술연구원 기숙사)
  • 서명원 / 대전광역시 유성구 지족로 ***, ***동 ****호 (지족동, 반석마을*단지아파트)
  • 이해인 / 부산광역시 남구 용소로 **-* (대연동)
  • 이재구 / 대전광역시 서구 청사서로 **, ***동 ***호 (월평동, 한아름아파트)
  • 라호원 / 대전광역시 유성구 배울*로 *, ***동 ****호 (관평동, 한화꿈에그린)
  • 윤상준 / 세종특별자치시 누리로 **, ***동 ****호 (한솔동, 첫마을 *단지)
  • 문태영 / 경기도 김포시 풍무로**번길 **, ***동 ****호 (풍무동)
출원인 / 주소
  • 한국에너지기술연구원 / 대전광역시 유성구 가정로 ***(장동)
대리인 / 주소
  • 특허법인다래
심사청구여부 있음 (2015-11-13)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명의 실시예에 따른 실리카를 이용한 실리콘의 제조방법은 반응 챔버에 실리카를 수용하는 단계; 상기 반응 챔버에 환원제를 첨가하는 단계; 상기 반응 챔버 내부에 충격재를 장입하여 밀봉하는 단계; 및 상기 충격재에 의한 물리적 충격이 상기 반응 챔버 내부에서 발생되도록 하여 상기 실리카를 실리콘으로 환원반응시키는 단계를 포함한다.본 발명의 실시예에 따른 실리카를 이용한 실리콘 제조방법은 고온고압의 공정을 사용하지 않으며, 환원 반응 후에도 반응 전의 실리카에 존재하는 다공성 구조를 유지할 수 있는 실리콘 제조 방법을 제공한다.

대표청구항

반응 챔버에 실리카를 수용하는 단계;상기 반응 챔버에 환원제를 첨가하는 단계;상기 반응 챔버 내부에 충격재를 장입하여 밀봉하는 단계; 및 상기 충격재에 의한 물리적 충격이 상기 반응 챔버 내부에서 발생되도록 하여 상기 실리카를 실리콘으로 환원반응시키는 단계; 를 포함하고,상기 실리콘의 다공성도는 반응물인 실리카의 다공성도 대비 100% 내지 70%의 변화율을 갖는 실리카를 이용한 실리콘의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 왕겨 유래 고순도 다공성 실리카 및 실리콘 합성 방법 | 성용주, 정대수, 박승빈, 송동수
  2. [일본] REDUCING METHOD FOR METALLIC OXIDE, REFINING METHOD THEREFOR AND PRODUCTION OF SUPERFINE CRYSTAL GRAIN METAL | NASU TOSHIO, TOKUMITSU KAZUTO, KONNO TOYOHIKO, SUZUKI KENJI

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 다공성 실리콘 및 이를 포함하는 이차전지 음극 활물질 제조 방법 | 이정규, 윤나은, 강동환
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