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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0188564 (2015-12-29) | |
공개번호 | 10-2017-0078238 (2017-07-07) | |
등록번호 | 10-2490739-0000 (2023-01-17) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150188564 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-12-29) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 실리콘 질화막의 식각에 사용된 인산을 포함하는 식각액에 스팀을 공급하여 상기 식각액 중에 포함되는 플루오르화 화합물을 제거하는 단계를 포함하는 식각액의 정제 방법에 관한 것으로, 본 발명은 식각액 정제 공정 효율성을 증대시키고, 식각액의 수명을 늘릴 수 있다.
실리콘 질화막의 식각에 사용된 인산을 포함하는 식각액에 스팀을 공급하여 상기 식각액 중에 포함되는 플루오르화 화합물을 제거하는 단계를 포함하고,상기 플루오르화 화합물은 정제 후 식각액 중 0.1 내지 5 ppm 함량으로 포함된 것인, 식각액의 정제 방법.
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