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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0141002 (2011-12-23) | |
공개번호 | 10-2013-0073251 (2013-07-03) | |
등록번호 | 10-1320421-0000 (2013-10-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110141002 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-12-23) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 식각용액에 관한 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 식각용액은 전체 조성물 총 중량에 대하여 불화암모늄(NH4F) 1 내지 20 중량%, 인산(H3PO4) 0.1 내지 10 중량%, 불화수소암모늄(NH4HF2) 0.1 내지 5 중량% 및 나머지는 탈이온수를 포함할 수 있다.
실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 동시에 식각하기 위한 식각용액으로,전체 조성물 총 중량에 대하여 불화암모늄(NH4F) 5 내지 15 중량%, 인산(H3PO4) 0.1 내지 10 중량%, 불화수소암모늄(NH4HF2) 0.1 내지 5 중량%, 염산 0.01 내지 0.5 중량% 및 나머지는 탈이온수를 포함하는 식각용액.
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