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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-7023244 (2015-08-26) | |
공개번호 | 10-2015-0138173 (2015-12-09) | |
등록번호 | 10-1803768-0000 (2017-11-27) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2013-080037 (2013-04-07) | |
국제출원번호 | PCT/JP2014/060027 (2014-04-04) | |
국제공개번호 | WO 2014/168096 (2014-10-16) | |
번역문제출일자 | 2015-08-26 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020157023244 | |
발명자 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-03-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
반응 가스 공급 수단을, 샤워 플레이트와, 캐비티 및 그를 에워싸는 격벽에 의해 구성한 회전형 세미 배치 ALD 장치 혹은 해당 장치를 이용한 ALD 프로세스에 관한 것으로서, 퍼지 가스 수단을, 피처리 기판과의 사이의 좁은 갭 공간을 횡방향으로 높은 유속으로 균일하게 가스를 흘리는 샤워 플레이트로 구성했거나, 모든 반응 가스 및 퍼지 가스 공급 수단을 진공 배기 홈으로 에워싼 구조를 갖거나, 서로 다른 반응 가스 공급 수단을 피처리 기판의 직경 이상으로 이격시킨 배치 구조를 갖거나, 좁은 갭을 정밀하게 제어하기 위해 에어 쿠션과
진공 용기, 회전 서셉터, 서셉터 위에 탑재된 복수 개의 피처리 기판, 기판 가열 히터, 진공 용기 상부에 설치된 복수 개의 부채꼴 반응 가스 공급 수단, 반응 가스 공급 수단 사이에 설치된 퍼지 가스 공급 수단, 반응 가스마다 독립된 별개의 계통으로 구비된 진공 배기 수단으로 구성되며, 서셉터를 회전시킴으로써 기판을 차례로 반응 가스에 폭로시키는 것을 반복함으로써 ALD 성막을 수행하는 회전 세미 배치형 ALD 장치에 있어서, 적어도 하나의 반응 가스 공급 수단에 대해, 다공 샤워 플레이트와 가스의 다운 플로를 위하여 상기 다공
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