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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0024539 (2016-02-29) | |
공개번호 | 10-2017-0102124 (2017-09-07) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160024539 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-02-29) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 공정 단가를 낮추면서도 우수한 특성의 산화막을 형성할 수 있는 박막 표면 처리 방법을 제공하기 위한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 박막 표면 처리 방법은, OH 라디칼을 포함하는 반응물을 이용하여 박막 표면에 산화막을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
OH 라디칼을 포함하는 반응물을 이용하여 박막 표면에 산화막을 형성하는 단계를 포함하는 박막 표면 처리 방법.
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