[특허]웨이퍼 건조 장치 및 웨이퍼 건조 방법

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[한국특허] 웨이퍼 건조 장치 및 웨이퍼 건조 방법
APPARATUS AND METHOD FOR DRYING WAFER 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/02 H01L-021/67 H01L-021/677
출원번호	10-2016-0077579 (2016-06-21)
공개번호	10-2016-0150601 (2016-12-30)
우선권정보	일본(JP) JP-P-2015-124538 (2015-06-22)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160077579
발명자 / 주소	이마이 마사요시 / 일본국 도쿄도 오타구 하네다아사히쵸 *-, 가부시키가이샤 에바라세이사꾸쇼 내 하마다 사토미 / 일본국 도쿄도 오타구 하네다아사히쵸 *-, 가부시키가이샤 에바라세이사꾸쇼 내
출원인 / 주소	가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 / 일본국 도쿄도 오타쿠 하네다아사히쵸 *-
대리인 / 주소	특허법인(유)화우
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

[과제]워터마크의 생성을 방지할 수 있는 웨이퍼 건조 장치를 제공한다.[해결 수단]웨이퍼 건조 장치는, 건조실(71) 내에서 웨이퍼(W)를 반송하는 반송 기구(73)와, 반송 기구(73)의 상방에 배치되고, 불활성 가스의 하강 분류를 형성하는 불활성 가스 분사 노즐(75)과, 웨이퍼(W)의 반송 방향에 관하여 불활성 가스 분사 노즐(75)의 상류측에 배치된 액 흡인 노즐(81)을 구비한다.액 흡인 노즐(81)과, 반송 기구(73)에 의해서 반송될 때의 웨이퍼(W)의 표면과의 거리 d는, 1 ㎜∼2 ㎜이다.

대표청구항

건조실 내에서 웨이퍼를 반송하는 반송 기구와,상기 반송 기구의 상방에 배치되고, 불활성 가스의 하강 분류를 형성하는 불활성 가스 분사 노즐과,상기 웨이퍼의 반송 방향에 관하여 상기 불활성 가스 분사 노즐의 상류측에 배치된 액 흡인 노즐을 구비하며,상기 액 흡인 노즐과, 상기 반송 기구에 의해서 반송될 때의 웨이퍼의 표면과의 거리는, 1 ㎜∼2 ㎜인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치.

이 특허에 인용된 특허 (5)

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[일본] WASHING LIQUID SUCTION APPARATUS | KIMURA TAKASHI, ONO HITOSHI, YAMAMOTO YUICHI
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[일본] APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE | YAMAGUCHI KAZUHIKO, KIMURA TAKAHIRO
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[일본] CONTAINER CLEANING APPARATUS AND CONTAINER CLEANING METHOD | KISO SHOICHI
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[일본] SUBSTRATE CLEANING DEVICE | IMAI MASAYOSHI
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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