초록 ▼

1. 1차년도
가. 자동화 Revised -Unit SCORR 시스템 개발
1) 자동화 SCORR system 1. 1차년도
가. 자동화 Revised -Unit SCORR 시스템 개발
1) 자동화 SCORR system -unit 개선을 통한 표준화 양산용 module 설계/제작/성능평가
2) 초임계 고압 챔버 module 표준화
3) 300mm wafer 기준, 생산성이 60ea/hr의 자동화 SCORR 시스템 구축
나. 대표적 패턴웨이퍼 세정공정개발
1) FEOL/BEOL wafer의 SCORR 공정 최적화
2) 세정을 위한 상업용 첨가제 및 계면활성제 finding
3) 세정용 첨가제 배합 기술
4) 웨이퍼에 따른 표준화 작업(이산화탄소, 친화형 첨가제, 세정 및 건조 공정 조건)
다. 고순도 이산화탄소 정제 공정 개발
1) 고순도 이산화탄소 정제를 위한 흡착 공정 실험
2) 흡착 공정 simulation
라. 이산화탄소 분리/회수 공정 개발
1) 이산화탄소 분리/회수를 위한 공정 simulation 및 공정 단순화
2) 다량의 이산화탄소 분리/회수 공정설계 및 조업 test
2. 2차년도
가. 파이롯 규모 300mm SCORR 시스템 개발
1) 300mm 웨이퍼 기준, 120매/hr 생산성 기반의 준 양산 설비 구축
2) Multi chamber에 적합한 웨이퍼 이송용 로봇 시스템
3) 대량의 웨이퍼 처리 성능 평가 및 개선을 통한 SCORR 시스템의 완성
4) 장비시스템 표준화
나. 패턴웨이퍼 세정공정개발
1) FEOL/BEOL wafer의 SCORR 공정 표준화
2) scCO2 세정을 위한 상업용 첨가제 및 계면활성제 finding
3) scCO2 세정용 첨가제 배합 기술
4) 공정 표준화(이산화탄소, 친화형 첨가제, 세정 및 건조 공정 조건)
다. 고순도 이산화탄소 정제 공정 개발
1) 고순도 이산화탄소 정제를 위한 흡착 공정 실험
2) 흡착 공정 simulation
라. 이산화탄소 분리/회수 공정 개발
1) 다량의 이산화탄소 분리/회수 공정 실험

Abstract ▼

1. First Year
A. The development of automatic revised -Unit SCORR system
1) The design, manufacture and performance test of mass module by improvement of automatic

1. First Year
A. The development of automatic revised -Unit SCORR system
1) The design, manufacture and performance test of mass module by improvement of automatic -Unit SCORR system
2) The standardization of supercritical high pressure chamber module
3) The construction of automatic SCORR system on the basis of 300mm wafer and the throughput of 6ea/hr
B. The process development for cleaning of typical patterned wafer
1) The SCORR process optimization of FEOL wafer and BEOL wafer
2) The finding of commercial additives and surfactants for cleaning and stripping
3) The technology of additives formulation for stripping and cleaning
4) The standard work of various wafers(, attractive additives for , cleaning and drying process condition)
C. The process development for the purification of high purity
1) The adsorption test for the purification of high purity
2) The adsorption process simulation
D. The process development for the separation, recycling and providing of
1) The process simulation and process simplification for the separation, recycling and providing of
2) The process design and operation test for the separation, recycling and providing of a great quantity of
2. Second Year
A. The development of pilot scale 300mm SCORR system
1) The construction of quasi-mass SCORR system on the basis of 300mm wafer and the throughput of 120ea/hr
2) WTR(wafer transfer robot) system for multi chamber
3) The completion of SCORR system by performance test and improvement for operation of mass wafers
4) The standardization of equipment system
B. The process development for cleaning of typical patterned wafer
1) The SCORR process standardization of FEOL wafer and BEOL wafer
2) The finding of commercial additives and surfactants for cleaning and stripping
3) The technology of additives formulation for stripping and cleaning
4) The standardization of process(, attractive additives for , cleaning and drying process condition)
C. The process development for the purification of high purity
1) The adsorption test for the purification of high purity
2) The adsorption process simulation
D. The process development for the separation, recycling and providing of
1) The operation test for the separation, recycling and providing of a great quantity of

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 최종보고서 초록 ... 3
• 연구개발사업 주요 연구성과 ... 10
• 요약문 ... 15
• SUMMARY ... 18
• 목차 ... 23
• 제 1 장 서론 ... 24
• 제 1 절. 개발기술의 중요성 및 필요성 ... 24
• 1. 개발기술의 중요성 ... 24
• 2. 개발기술의 필요성 ... 26
• 제 2 절. 국내ㆍ외 관련 기술의 현황 ... 34
• 1. 국내의 경우[1,5,26] ... 34
• 2. 국외의 경우[1,5,26] ... 35
• 3. 국ㆍ내외 특허 및 현존 기술과의 관련성 ... 38
• 제 3 절. 기술개발 시 예상되는 기술적ㆍ경제적 파급 효과 ... 39
• 1. 기술적 측면 ... 39
• 2. 경제적 측면 ... 40
• 3. 정책적 측면 ... 42
• 제 2 장 기술개발 내용 및 방법 ... 43
• 제 1 절. 최종 목표 및 평가 방법 ... 43
• 제 2 절. 단계 목표 및 평가 방법 ... 44
• 제 3 절. 연차별 개발 내용 및 개발 범위 ... 47
• 1. 1차년도 ... 47
• 2. 2차년도 ... 50
• 제 3 장 결과 및 사업화 계획 ... 52
• 제 1 절. 연구개발 최종 결과 ... 52
• 1. 연구개발 추진 일정 ... 52
• 2. 연구개발 추진 실적 ... 54
• 3. 기술개발 결과의 유형 및 무형 성과 전체를 기재 ... 56
• 제 2 절. 연구개발 추진 체계 ... 58
• 2-1절 각 기관/기업별 역할 ... 58
• 2-2절 연구개발 추진 내역(상세 연구개발 결과) ... 59
• 제 3 절. 시장 현황 및 사업화 전망 ... 160
• 1. 반도체 시장현황 ... 160
• 2. 초임계 세정장비 사업화 전망 ... 163
• 부록 (참고문헌) ... 166