[특허]탄소나노튜브 방적사를 구비하는 유연 전극 장치, 이의 제조방법 및 이를 이용한 발열 장치

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탄소나노튜브 방적사를 구비하는 유연 전극 장치, 이의 제조방법 및 이를 이용한 발열 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01B-001/04 H01B-013/00 H01B-013/02 H05B-003/14 H05B-003/34
출원번호	10-2016-0097859 (2016-08-01)
공개번호	10-2018-0014505 (2018-02-09)
등록번호	10-2006831-0000 (2019-07-29)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160097859
발명자 / 주소	정대웅 / 충청남도 천안시 서북구 입장면 양대기로길 한국생산기술연구원 성병목 / 대구광역시 서구 달서로길 - (비산동)
출원인 / 주소	한국생산기술연구원 / 충청남도 천안시 서북구 입장면 양대기로길 **
대리인 / 주소	한상수
심사청구여부	있음 (2016-08-01)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명에 의하면, 유연한 재질의 판상의 기재(110); 및 상기 기재와 평행하게 배치되고 상기 기재를 관통하는 하나 이상의 탄소나노튜브 방적사(120)를 포함하는 유연 전극 장치가 제공된다.

대표청구항 ▼

유연한 재질의 판상의 기재; 및상기 기재와 평행하게 배치되고 상기 기재를 관통하여 양단이 외부와의 전기적 접속을 위해 상기 기재의 양측으로 돌출되는 탄소나노튜브 방적사를 하나 이상 포함하고,상기 탄소나노튜브 방적사는 스피닝이 가능한 탄소나노튜브로 제작된 스핀가능 탄소나노튜브 시트로부터 탄소나노튜브를 뽑아 꼬아서 제조되며,상기 스피닝이 가능한 탄소나노튜브는 비정질 산화물층, 산화알루미늄(Al2O3)층 및 철로 형성된 촉매층이 상면에 순차적으로 코팅된 실리콘(Si) 기판을 이용하여 형성되고,상기 산화알루미늄층의 두께는 3nm(나노미터)이며,상기 촉매층의 두께는 1.5 내지 7nm(나노미터)이고,상기 실리콘 기판에 분위기 가스로써 아르곤 가스, 아세틸렌 가스 및 150 내지 700sccm의 수소 가스를 주입하면서 650 내지 900℃의 성장온도까지 상승시키면 상기 촉매층에 파티클이 형성되며,상기 촉매층이 변하여 생성되는 상기 파티클의 직경은 8 내지 22nm(나노미터)이고,상기 성장온도를 유지하면서 추가적인 수소 가스와 아세틸렌 가스를 주입하면, 아세틸렌 분자의 열분해에 의해 생성된 탄소 분자가 상기 파티클 상 증착되어 육면체 형상을 형성하는 핵화가 수행되고, 계속 상기 성장온도를 유지하면 상기 파티클 상에서 상기 스피닝이 가능한 탄소나노튜브가 성장하는 것을 특징으로 하는 유연 전극 장치.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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