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연합인증

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땜납 플럭스 잔류물 세정제 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C11D-011/00
  • C11D-001/72
  • C11D-003/00
  • C11D-003/06
  • H05K-003/26
출원번호 10-2016-0107626 (2016-08-24)
등록번호 10-1796112-0000 (2017-11-03)
DOI http://doi.org/10.8080/1020160107626
발명자 / 주소
  • 김익범 / 인천광역시 남구 주승로 ***, ***동 ***호(관교동, 삼환*차아파트)
  • 강병걸 / 인천광역시 연수구 원인재로 **, **동 ***호(동춘동, 한양*차아파트)
  • 양우찬 / 인천광역시 남동구 성말로**번길 **-*, A동 ***호(구월동, 신세대빌라)
출원인 / 주소
  • 와이엠티 주식회사 / 인천광역시 남동구 남동동로***번길 **, 남동공단 **블럭 **롯트 (고잔동)
대리인 / 주소
  • 곽현규; 이성하
심사청구여부 있음 (2016-08-24)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

비이온계 계면활성제, 착화제, 무기계 인산 화합물, 부식방지제 및 물을 포함하는 땜납 플럭스 잔류물 세정제 조성물이 제공된다. 또한 상기 조성물을 땜납 플럭스에 접촉시킴으로써 상기 플럭스를 제거하는 땜납 플럭스의 제거방법이 제공된다.

대표청구항

비이온계 계면활성제;카르복실산계 착화제, 아미노산계 착화제, 포스폰산계 착화제, 인산계 착화제 및 아미노 카르복실산계 착화제로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 착화제;무기계 인산 화합물;부식방지제; 및물로 구성되되,상기 부식방지제는 알라닌, 글루탐산, 아스파르트산, 트레오닌, 글리신, 페닐알라닌, 발린, 류신, 세린, 리신, 아르기닌, 히스티딘, 티로신, 트립토판 및 프롤린으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 무연땜납 플럭스 잔류물 세정제 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [미국] CLEANING AGENT FOR REMOVAL OF SOLDERING FLUX | Doyel, Kyle J., Bixenman, Michael L., Lober, David T., Raney, Wayne, Soucy, Kevin

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 초음파 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 | 장재용
  2. [한국] 탈지제 및 이에 포함된 슬러지 제거 장치 | 강한철, 정혜식, 정완덕, 박경태
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