후쿠시마 마사히로
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사게하시 마사요시
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하세가와 고지
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하타케야마 준
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가타야마 가즈히로
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출원인 / 주소
신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 / 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
대리인 / 주소
김진회;
김태홍
심사청구여부
있음 (2019-11-04)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
등록
초록▼
본 발명은, 식 (1a) 또는 (1b)로 표시되는 중합성 단량체를 제공하는 것을 목적으로 한다.(A는 중합성기를 나타낸다. R1∼R6은 1가 탄화수소기, R1과 R2, R3과 R4, R3과 R5, R4와 R5는 지환기를 형성하여도 좋다. X1은 2가 탄화수소기, Z1은 지방족 탄화수소기. k는 0 또는 1, m은 1 또는 2, n은 1∼4. Z2는 지환기를 형성하는 데 필요한 원자단.)본 발명의 중합성 단량체로부터 얻어진 고분자 화합물을 베이스 수지로서 이용한 레지스트 재료는, KrF 레이저광, ArF 레이저광, F2 레이저광에 대
본 발명은, 식 (1a) 또는 (1b)로 표시되는 중합성 단량체를 제공하는 것을 목적으로 한다.(A는 중합성기를 나타낸다. R1∼R6은 1가 탄화수소기, R1과 R2, R3과 R4, R3과 R5, R4와 R5는 지환기를 형성하여도 좋다. X1은 2가 탄화수소기, Z1은 지방족 탄화수소기. k는 0 또는 1, m은 1 또는 2, n은 1∼4. Z2는 지환기를 형성하는 데 필요한 원자단.)본 발명의 중합성 단량체로부터 얻어진 고분자 화합물을 베이스 수지로서 이용한 레지스트 재료는, KrF 레이저광, ArF 레이저광, F2 레이저광에 대하여 우수한 투명성을 갖는다. 현상 특성이 우수하고, 고콘트라스트, 고해상이며, 에칭 내성도 우수한 알칼리 현상액에 불용인 네거티브 패턴의 형성이 가능하다.
대표청구항▼
하기 식 (1aa) 또는 (1bb)로 표시되는 것을 특징으로 하는 중합성 단량체.(식 중, A는 중합성기를 나타낸다. R1∼R4, R6은 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 직쇄상, 또는 탄소수 3∼10의 분기상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 지환기를 형성하여도 좋다. 또한 탄소수 1∼10의 직쇄상, 또는 탄소수 3∼10의 분기상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 좋다. X1은 탄소수
하기 식 (1aa) 또는 (1bb)로 표시되는 것을 특징으로 하는 중합성 단량체.(식 중, A는 중합성기를 나타낸다. R1∼R4, R6은 각각 독립적으로 탄소수 1∼10의 직쇄상, 또는 탄소수 3∼10의 분기상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 지환기를 형성하여도 좋다. 또한 탄소수 1∼10의 직쇄상, 또는 탄소수 3∼10의 분기상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 좋다. X1은 탄소수 1∼15의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 2가 탄화수소기를 나타내고, 2가 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 좋다. Z1은 탄소수 1∼20의 직쇄상, 또는 탄소수 3∼20의 분기상 또는 환상의 (n+1)가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 상기 지방족 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 좋다. k는 0 또는 1이다. m은 1 또는 2이다. n은 1∼4의 정수이다. Z2는 이것이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3∼10의 지환기를 형성하는 데 필요한 원자단을 나타낸다. 또한, 이들 원자단을 형성하는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 좋다. 또한, 상기 식 (1aa)와 (1bb)에 있어서, Z1 및 원자단 Z2에 결합하는 산소 원자가 중합성기 A 또는 링커 단위 -[O-X1-C(=O)]-와 결합을 형성할 때, 3급 에스테르 결합은 형성되지 않는다.)
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