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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2016-0162297 (2016-11-30) | |
| 등록번호 | 10-1813186-0000 (2017-12-21) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020160162297 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2017-04-06) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
포토마스크용 펠리클과 이를 포함하는 레티클 및 리소그래피용 노광 장치에 관해 개시되어 있다. 개시된 포토마스크용 펠리클은 펠리클 멤브레인을 포함할 수 있고, 상기 펠리클 멤브레인은 나노결정질 그래핀(nanocrystalline graphene)을 포함할 수 있다. 상기 나노결정질 그래핀은 결함을 가질 수 있다. 상기 나노결정질 그래핀은 나노스케일의 복수의 결정립을 포함할 수 있고, 상기 복수의 결정립은 방향족 고리 구조를 갖는 이차원 탄소구조체를 포함할 수 있다. 상기 나노결정질 그래핀의 결함은 sp3 탄소 원자, 산소 원자, 질소
극자외선(extreme ultraviolet)(EUV)을 포함한 광을 이용한 노광 공정에서 포토마스크를 보호하기 위한 포토마스크용 펠리클(pellicle)에 있어서, 상기 극자외선을 투과시키는 특성을 갖는 것으로, 결함을 갖는 나노결정질 그래핀(nanocrystalline graphene)을 구비하는 펠리클 멤브레인(pellicle membrane);을 포함하고, 상기 나노결정질 그래핀은 나노스케일의 복수의 결정립(crystal grain)을 포함하고, 상기 복수의 결정립은 방향족 고리(aromatic ring) 구조를 갖는 이차원
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