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그래핀막의 제조 방법 및 이것을 사용한 펠리클의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-001/62
  • G03F-001/66
  • G03F-007/20
출원번호 10-2017-0148824 (2017-11-09)
공개번호 10-2018-0053251 (2018-05-21)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2016-220221 (2016-11-11)
DOI http://doi.org/10.8080/1020170148824
발명자 / 주소
  • 야나세 유 / 일본 군마켕 안나카시 이소베 *쵸메 **방 *고 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 세이미츠키노우자이료겡큐쇼 나이
출원인 / 주소
  • 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 / 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

(과제) 본 발명의 목적은, 그래핀막을 얻기 위한 유효한 제조 방법 및 EUV 광에 대해 높은 투과율을 나타내는 펠리클의 제조 방법을 제공하는 것이다.(해결 수단) 본 발명은, 기판 상에 형성된 그래핀을 준비하는 공정과, 그래핀을 보호막으로 피복하는 공정과, 기판을 웨트 에칭에 의해 제거하는 공정과, 보호막을 웨트 에칭에 사용하는 웨트 에칭액보다 표면 장력이 작은 용제를 사용하여 용해 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.

대표청구항

기판 상에 형성된 그래핀을 준비하는 공정과, 그 그래핀을 보호막으로 피복하는 공정과, 상기 기판을 웨트 에칭에 의해 제거하는 공정과, 상기 보호막을 상기 웨트 에칭에 사용하는 웨트 에칭액보다 표면 장력이 작은 용제를 사용하여 용해 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀막의 제조 방법.

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