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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2016-0177788 (2016-12-23) | |
| 등록번호 | 10-1748195-0000 (2017-06-12) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020160177788 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2016-12-23) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 다층 구조 세라믹 전극을 이용하여 반도체 기판을 지지하기 위한 정전척에 관한 것이다. 본 발명의 일예와 관련된 공정 시 반도체 기판의 위치를 고정하기 위해, 상기 반도체 기판을 로딩 또는 언로딩하는 스테이지를 포함하는 정전척에 있어서, 상기 스테이지는, 복수의 세라믹 레이어로 구성된 세라믹 플레이트; 및 상기 복수의 세라믹 레이어 사이에 적어도 하나 배치되는 복수의 전극;을 포함하고, 상기 복수의 세라믹 레이어 중 적어도 일부를 유전체로 이용하여 상기 반도체 기판과 상기 복수의 전극 간에 발생된 정전기력을 통해 상기 반도
공정 시 반도체 기판의 위치를 고정하기 위해, 상기 반도체 기판을 로딩 또는 언로딩하는 스테이지를 포함하는 정전척에 있어서,상기 스테이지는,복수의 세라믹 레이어로 구성된 세라믹 플레이트; 및상기 복수의 세라믹 레이어 사이에 적어도 하나 배치되는 복수의 전극;을 포함하고,상기 복수의 세라믹 레이어 중 적어도 일부를 유전체로 이용하여 상기 반도체 기판과 상기 복수의 전극 간에 발생된 정전기력을 통해 상기 반도체 기판의 위치가 고정되며,상기 복수의 세라믹 레이어 및 복수의 전극의 적어도 일부는 분리 및 제거 가능하고,상기 스테이지의 표면
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