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연합인증

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히터가 구비된 정전척 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/683
  • B23Q-003/15
  • H01L-021/67
  • H02N-013/00
출원번호 10-2018-0077396 (2018-07-04)
공개번호 10-2020-0004499 (2020-01-14)
등록번호 10-2156365-0000 (2020-09-09)
DOI http://doi.org/10.8080/1020180077396
발명자 / 주소
  • 이두로 / 경기도 성남시 분당구 산운로 ***, ****동 (운중동, 판교산운아펠바움)
  • 이성규 / 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, ***동 ***호(정자동, 파크뷰)
  • 김원일 / 경기도 광주시 초월읍 경충대로 ****, ***동 ***호 (초월롯데낙천대아파트)
  • 남환수 / 강원도 강릉시 교동광장로 ***-**, ***동 ***호 (교동주공*단지아파트)
출원인 / 주소
  • (주)케이에스티이 / 경기도 화성시 동탄산단*길 **-**(방교동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 신세기
심사청구여부 있음 (2018-07-04)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 히터에서 발생된 열의 확산을 향상시켜 온도 균일도를 안정적으로 유지시킬 수 있는 히터가 구비된 정전척 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 일 실시형태에 따른 히터가 구비된 정전척은 기판 처리 장치의 내부에 구비되어 기판이 안치되는 정전척으로서, 내부에 전극이 내장되는 유전체와; 상기 유전체의 하면에 형성되는 히터 패턴과; 상기 히터 패턴을 덮으면서 상기 유전체의 하면에 소결되어 형성되는 열확산 실링층과; 본딩층을 매개로 상기 열확산 실링층의 하면에 접합되는 베이스 바디를 포함한다.

대표청구항

기판 처리 장치의 내부에 구비되어 기판이 안치되는 정전척으로서,내부에 전극이 내장되는 유전체와;상기 유전체의 하면에 형성되는 히터 패턴과;상기 히터 패턴을 덮으면서 상기 유전체의 하면에 소결되어 형성되는 열확산 실링층과;본딩층을 매개로 상기 열확산 실링층의 하면에 접합되는 베이스 바디를 포함하고,상기 열확산 실링층은 중량%로, C: 5 ~ 15%, O: 20 ~ 45%, Al: 5 ~ 20%, Si: 25 ~ 35%, K: 0.5 ~ 2.0%, Ba: 10.0% 이하가 되도록 SiO2를 포함하는 유리형성제, K2O를 포함하는 용융촉

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 온도 가변형 정전척 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 | 조상범, 박동철, 김민삼, 최진식
  2. [한국] 반도체 처리를 위한 평면형 열적 존을 갖는 열적 플레이트 | 개프 키이스 윌리암, 커멘댄트 키이스, 리치 앤서니
  3. [일본] SEALING MATERIAL LAYER-FITTED GLASS SUBSTRATE AND ORGANIC EL DEVICE USING THE SAME | MASUDA NORIAKI, SHIRAGAMI TORU, ARAKAWA HIROSHI
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